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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利用于在光刻设备中使用的衬底支架获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111213093B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880066459.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于在光刻设备中使用的衬底支架是由N·J·J·罗塞特;M·M·P·A·韦尔默朗;S·K·拉万斯贝根;M·C·J·巴格;G·克雷默;R·A·M·蒂默曼斯;F·P·A·范德贝克莫尔特设计研发完成，并于2018-09-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于在光刻设备中使用的衬底支架在说明书摘要公布了：一种用于在光刻设备中使用并且被配置为支撑衬底的衬底支架，该衬底支架包括：具有主体表面的主体；从主体表面突出的多个主突节，其中每个主突节具有被配置为支撑衬底的远端表面；从主体表面突出并且具有上表面的第一密封构件，第一密封构件围绕多个主突节并且被配置为限制液体在衬底和主体表面之间径向向内经过第一密封构件的通道；以及从第一密封构件的上表面突出的多个小突节，其中每个小突节具有被配置为支撑衬底的远端表面。

本发明授权用于在光刻设备中使用的衬底支架在权利要求书中公布了：1.一种衬底支架，用于在光刻设备中使用并且被配置为支撑衬底，所述衬底支架包括：主体，具有主体表面；多个第一突节，从所述主体表面突出，每个第一突节具有被配置为支撑所述衬底的远端表面；第一密封构件，在所述主体的边缘区域处从所述主体表面突出并且具有被设置为当所述衬底被所述多个第一突节支撑时以第一间隙与所述衬底间隔开的上表面，所述第一密封构件围绕所述多个第一突节；多个第二突节，被布置在所述第一密封构件的径向外侧，每个第二突节具有被配置为支撑所述衬底的远端表面；第二密封构件，在所述主体的所述边缘区域处从所述主体表面突出并且具有被设置为当所述衬底被所述多个第一突节支撑时以第二间隙与所述衬底间隔开的上表面，所述第二密封构件围绕所述第一密封构件和所述多个第二突节并且被设置在所述衬底之下，并且所述第一间隙被设置为当所述衬底被所述多个第一突节支撑时与所述第二间隙流体连接；以及至少一个抽取开口，用于将流体从所述主体和所述衬底之间抽取到所述主体中，所述至少一个抽取开口被布置在所述第一密封构件和所述第二密封构件之间、或者在所述第二密封构件的所述上表面中。

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