恭喜旭化成株式会社船川明恭获国家专利权
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龙图腾网恭喜旭化成株式会社申请的专利层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114540853B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210236925.0,技术领域涉及:C25B9/23;该发明授权层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法是由船川明恭;角佳典;蜂谷敏德;古池润设计研发完成,并于2018-03-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法在说明书摘要公布了:本发明涉及层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法。一种层积体,其具有隔膜和固定于所述隔膜的表面的至少1个区域的电解用电极,所述隔膜的表面上,所述区域的比例超过0%且小于93%。
本发明授权层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种电解槽的制造方法,其为通过在原有电解槽的阳极或阴极的表面配置电解用电极或该电解用电极与新的隔膜的层积体而用于制造新的电解槽的方法,所述原有电解槽具备阳极、与所述阳极相向的阴极、和配置于所述阳极与所述阴极之间的隔膜,其中,所述电解槽的制造方法使用所述电解用电极或所述层积体的卷绕体。
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