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龙图腾网恭喜江苏斯瑞达材料技术股份有限公司申请的专利一种耐高温低粘无残胶保护膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119119904B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411612677.0，技术领域涉及：C09J7/30；该发明授权一种耐高温低粘无残胶保护膜及其制备方法是由汪国明;金小林;王述明设计研发完成，并于2024-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种耐高温低粘无残胶保护膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及保护膜技术领域，具体为一种耐高温低粘无残胶保护膜及其制备方法；本发明为了提升保护膜的无残胶性能，本发明使用了4‑羧基苯硼酸频那醇酯与双4‑氨基苯氧基二甲基硅烷为原料，通过控制反应条件与添加量的变化，制备得到了含有游离氨基的硼硅中间体，其中所具有的硼元素与硅元素均具有良好的阻燃性能，可有效提升保护膜的阻燃性能，提升加工过程中的安全系数，并且由于硼元素与硅元素的引入在胶黏剂中引入了‑O‑B‑O‑链段与‑O‑Si‑O‑链段，二者均具有高键能，可以有效提升胶黏剂的高温稳定性，使得胶黏剂在高温下仍旧具有优异的性能，并且还可有效改善胶黏剂的内聚力，避免了在移除保护膜过程中的残胶现象。

本发明授权一种耐高温低粘无残胶保护膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种耐高温低粘无残胶保护膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1.制备硼硅改性丙烯酸酯；S11.将4-羧基苯硼酸频那醇酯分散至甲苯中，氮气氛围保护，超声分散15-40min后，将其在2-4h内缓慢滴加至双4-氨基苯氧基二甲基硅烷中，滴加结束后，升温至85-95℃，搅拌反应2-6h后，旋蒸去除多余溶剂，得到硼硅中间体；S12.将三聚氰胺分散至DMAc中，冰水浴至恒温后，将其缓慢滴加中溶有1,6-己二异氰酸酯的DMAc溶液中，滴加过程中维持反应体系温度为75-80℃，滴加结束后，升温至85-90℃，继续搅拌反应0.5-2h后，冷却至室温后，加入二丁基二月桂酸锡与丙烯酸羟丙酯，升温至70-75℃，继续反应1-3h后，旋蒸去除多余溶剂，得到异氰酸酯改性丙烯酸酯中间体；S13.将异氰酸酯改性丙烯酸酯中间体分散至纯净的DMAc中，超声分散20-45min后，氮气氛围保护；将硼硅中间体分散至甲苯中，升温至45-75℃，搅拌分散45-60min后，将其滴加至分散有异氰酸酯改性丙烯酸酯中间体的DMAc中，滴加结束后，升温至110-112℃，保温反应1-1.5h后，升温至115-118℃，搅拌反应1-1.5h后，旋蒸去除多余溶剂，得到硼硅改性丙烯酸酯；S2.制备低残粘改性胶黏剂；将丙烯酸丁酯、硼硅改性丙烯酸酯、丙烯酸异辛酯混合，加入丙酮，继续混合5-10min后，升温至75-80℃，在1h内向其中匀速缓慢滴加异丙苯过氧化氢，滴加结束后，继续搅拌反应1-2h后，加入抗氧化剂与交联剂，继续混合5-10min后，加入丙酮，得到固含量为20-30%的低残粘改性胶黏剂；S3.对基膜内侧表面电晕处理，将低残粘改性胶黏剂涂布在基膜内侧表面，升温至80-85℃，干燥固化8-15min后，在胶黏剂表面覆离型膜，收卷，得到耐高温低粘无残胶保护膜。

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