恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司田毅强获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114690580B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011632305.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法是由田毅强;储兆祥设计研发完成，并于2020-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法。所述光照单元用于提供具第一光照。所述匀光单元用于均匀所述第一光照并将所述第一光照转换为第二光照。所述补偿单元包括至少一个具有多种光透过率的光学平板。所述补偿单元可以沿与所述第二光照的光线传播方向相同或相反的方向移动。所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照。所述第三光照的照度均匀度大于所述第二照度均匀度。因此，本发明通过设置具有多种光透过率的补偿单元来补偿所述匀光单元的匀光效果，从而使得第二光照经具有不同光透过率的所述补偿单元的调整，以获得照度均匀度较大的，均匀性更好的所述第三光照，有利于提高光刻机设备的曝光效果，进而提高产品性能。
本发明授权照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法在权利要求书中公布了：1.一种照明系统，其特征在于，所述照明系统包括：光照单元、匀光单元和补偿单元；所述光照单元用于提供具有多个光线传播方向的第一光照；所述匀光单元用于均匀所述第一光照并将所述第一光照转换为具有一个光线传播方向的第二光照；所述补偿单元包括至少一个具有多种光透过率的光学平板；所述光学平板可以沿与所述第二光照的光线传播方向相同或相反的方向移动；所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照；其中，所述第三光照的照度均匀度大于所述第二光照的照度均匀度。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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