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龙图腾网恭喜松山湖材料实验室申请的专利一种纳米膜断裂强度测试方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112730086B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011644433.2，技术领域涉及：G01N3/12；该发明授权一种纳米膜断裂强度测试方法及装置是由刘科海;张超;杨方友;杨秀华;陈益;刘开辉;王恩哥设计研发完成，并于2020-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种纳米膜断裂强度测试方法及装置在说明书摘要公布了：本申请提供了一种纳米膜断裂强度测试方法及装置，涉及薄膜测试技术领域。方法包括：记录纳米膜的厚度t，固定纳米膜，使纳米膜覆盖测试孔。对测试孔抽真空，使纳米膜断裂；记录断裂时测试孔内外的压强差，得断裂压差P。记录断裂时纳米膜向测试孔内凹陷的位移，得断裂位移w。以测试孔的直径D作线段，在线段的中点向下偏移断裂位移w的距离作断裂点，以断裂点和线段的两个端点作圆。测量圆的半径，得到断裂半径R。测量圆端点的切线与线段之间的夹角α，计算正弦值sinα。以公式计算断裂强度σ。装置包括基座、抽真空组件、压强检测单元和位移测量单元。方法能够快速便捷地测得纳米膜的断裂强度。

本发明授权一种纳米膜断裂强度测试方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种纳米膜断裂强度测试方法，其特征在于，所述纳米膜断裂强度测试方法包括：提供纳米膜，所述纳米膜的厚度为t；提供基座，所述基座具有测试孔；将所述纳米膜覆盖于所述测试孔，保持所述纳米膜表面平整，并将所述纳米膜固定于所述基座，对所述测试孔抽真空，直至所述纳米膜断裂；记录所述纳米膜断裂时所述测试孔内与所述测试孔外的压强差，得到断裂压差P，记录所述纳米膜断裂时所述纳米膜向所述测试孔内凹陷的位移，得到断裂位移w；建立断裂强度计算模型，以所述测试孔的直径D作线段，在所述线段的中点向下偏移所述断裂位移w的距离作断裂点，以所述断裂点和所述线段的两个端点，三点作圆，测量所述圆的半径，得到断裂半径R；测量所述圆在所述线段的端点的朝向所述断裂点的切线与所述线段之间的夹角α，得到断裂角α，并计算所述断裂角的正弦值sinα；以公式计算纳米膜的断裂强度σ；在计算断裂角α的正弦值sinα的步骤中，以公式计算得到。

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