恭喜中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司罗海龙获国家专利权
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龙图腾网恭喜中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司申请的专利薄膜体声波谐振器的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112039457B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910656733.3，技术领域涉及：H03H3/02；该发明授权薄膜体声波谐振器的制作方法是由罗海龙设计研发完成，并于2019-07-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本薄膜体声波谐振器的制作方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种薄膜体声波谐振器的制作方法。所述制作方法中，在第一衬底上依次形成了体声波薄膜和支撑结构，支撑结构包括主支撑墙、隔离墙以及辅助支撑柱，隔离墙设置于所述主支撑墙内，辅助支撑柱设置于隔离墙内，在键合第二衬底并移除第一衬底后，通过位于隔离墙限定的范围内的释放窗口去除辅助支撑柱和隔离墙。辅助支撑柱有助于在膜层转移及其它支撑结构上方的工艺中提供有效支撑，而形成于主支撑墙与辅助支撑柱之间的隔离墙在去除辅助隔离墙的过程中可以保护主支撑墙避免被侵蚀，提高后续位于主支撑墙限定范围的空腔的可靠性。
本发明授权薄膜体声波谐振器的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种薄膜体声波谐振器的制作方法，其特征在于，包括：提供第一衬底；在所述第一衬底上形成隔离层以及位于隔离层上的体声波薄膜；在所述体声波薄膜上形成支撑结构，所述支撑结构包括由外向内依次设置在所述体声波薄膜上表面的主支撑墙、隔离墙以及辅助支撑柱，所述主支撑墙和所述隔离墙均为环形结构，所述隔离墙设置于所述主支撑墙内，所述辅助支撑柱设置于所述隔离墙内；将所述第一衬底形成有所述支撑结构的一侧与第二衬底键合，并移除所述第一衬底；在所述体声波薄膜中形成释放窗口，所述释放窗口使所述隔离墙限定的空间与外界连通；以及利用所述释放窗口去除所述辅助支撑柱和所述隔离墙，其中，所述主支撑墙与所述辅助支撑柱的材质不同，去除所述辅助支撑柱的刻蚀工艺对所述辅助支撑柱的刻蚀速率大于对所述主支撑墙的刻蚀速率。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司，其通讯地址为：201210 中国(上海)自由贸易试验区蔡伦路85弄95号1幢3楼C区309；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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