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龙图腾网恭喜三星电子株式会社申请的专利等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110867363B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910519648.2，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置是由路四清;野口恭史;李天揆设计研发完成，并于2019-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体处理装置在说明书摘要公布了：等离子体处理装置包括处理室、设置在处理室中的基板卡盘和温度控制器。基板卡盘被配置为容纳基板，并且包括冷却剂流过的冷却通道。温度控制器被配置为控制供应给冷却通道的冷却剂的温度。温度控制器包括：冷却器，被配置为对供应给冷却通道的冷却剂进行冷却；加热器，被配置为对供应给冷却通道的冷却剂进行加热；以及三通阀，被配置为调节冷却剂通过冷却器的第一流速和冷却剂通过加热器的第二流速。

本发明授权等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，包括：处理室；基板卡盘，设置在所述处理室中，其中所述基板卡盘被配置为容纳基板，并且所述基板卡盘包括冷却剂流过的冷却通道；以及温度控制器，被配置为控制供应给所述冷却通道的所述冷却剂的温度，其中，所述温度控制器包括：冷却器，被配置为对供应给所述冷却通道的所述冷却剂进行冷却；加热器，被配置为对供应给所述冷却通道的所述冷却剂进行加热；以及三通阀，被配置为调节所述冷却剂通过所述冷却器的第一流速和所述冷却剂通过所述加热器的第二流速，其中，所述冷却通道包括：第一通道；第二通道，设置在所述第一通道内部，其中，所述基板卡盘的边缘与所述第一通道之间的第一径向距离小于所述基板卡盘的所述边缘与所述第二通道之间的第二径向距离；连接通道，在所述第一通道与所述第二通道之间延伸；以及旁路通道，从所述连接通道分支并延伸到所述基板卡盘外部，其中，所述第二通道设置在所述基板卡盘的中心部分附近，并且所述第一通道设置在所述基板卡盘的边缘部分附近，以及其中，当所述基板卡盘的所述边缘部分的温度高于所述基板卡盘的所述中心部分的温度时，所述温度控制器被配置为通过所述旁路通道将所述冷却剂排出到所述基板卡盘外部，使得所述冷却剂流过所述第二通道的第三流速小于所述冷却剂流过所述第一通道的第四流速。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。