恭喜ASML荷兰有限公司任伟明获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利多个带电粒子束的设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114420523B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210041735.3，技术领域涉及：H01J37/145；该发明授权多个带电粒子束的设备是由任伟明;刘学东;胡学让;陈仲玮设计研发完成，并于2016-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本多个带电粒子束的设备在说明书摘要公布了：披露了多个带电粒子束的设备。提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。
本发明授权多个带电粒子束的设备在权利要求书中公布了：1.一种多束成像系统，包括：磁透镜，其被配置成调节所述多束成像系统的多个带电粒子二次束的旋转，以使得能够实现由相对应的多个检测元件检测所述多个带电粒子二次束，其中，所述磁透镜被配置成产生第二旋转，所述第二旋转减少由所述多束成像系统的另一部件所产生的第一旋转；以及其中，所述另一部件包括物镜，所述物镜被配置成将多个带电粒子细束聚焦到样品表面上。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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