湖南德智新材料股份有限公司廖家豪获国家专利权
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龙图腾网获悉湖南德智新材料股份有限公司申请的专利清洗剂、使用该清洗剂去除金属离子的方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118440782B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410527835.6，技术领域涉及：C11D7/34；该发明授权清洗剂、使用该清洗剂去除金属离子的方法及应用是由廖家豪;刘赋灵;张紫林;柴攀;万强设计研发完成，并于2024-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洗剂、使用该清洗剂去除金属离子的方法及应用在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体领域，具体涉及一种清洗剂、使用该清洗剂去除金属离子的方法以及应用。所述清洗剂包括亚砜类物质、碱性化合物和氟化物；所述清洗剂包括元素S和元素N；所述清洗剂中元素S的含量为a，所述清洗剂中元素N的含量为b，所述清洗剂的pH值为c，满足1≤a+b*100c≤5。本发明的清洗剂能够高效去除金属离子，从而提高半导体材料的质量和性能。
本发明授权清洗剂、使用该清洗剂去除金属离子的方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种清洗剂在去除硅外延基座和或半导体材料的金属离子中的应用，其特征在于，所述清洗剂包括亚砜类物质、碱性化合物和氟化物；所述清洗剂包括元素S和元素N；所述清洗剂中元素S的含量为a，所述清洗剂中元素N的含量为b，所述清洗剂的pH值为c，满足1.7≤a+b*100c≤3.5；所述清洗剂还包括聚乙二醇；所述硅外延基座的孔隙率为0.1％-0.5％。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人湖南德智新材料股份有限公司，其通讯地址为：412000 湖南省株洲市天元区金马路156号湖南德智半导体产业园1号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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