恭喜大连万福制药有限公司方典军获国家专利权
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龙图腾网恭喜大连万福制药有限公司申请的专利一种4-氟异喹啉硫酸盐杂质去除设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222788965U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202420428090.3,技术领域涉及:B01F25/51;该实用新型一种4-氟异喹啉硫酸盐杂质去除设备是由方典军;王丽英;杨月;孙晓雨;徐秋妹设计研发完成,并于2024-03-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种4-氟异喹啉硫酸盐杂质去除设备在说明书摘要公布了:本实用新型涉及4‑氟异喹啉硫酸盐除杂的技术领域,特别是涉及一种4‑氟异喹啉硫酸盐杂质去除设备,其将溶剂和4‑氟异喹啉硫酸盐倒入储存机构中,通过混合机构对溶剂和4‑氟异喹啉硫酸盐进行循环输送,同时通过温度调节机构对储存机构进行加热,使储存机构内的溶剂和4‑氟异喹啉硫酸盐快速混合并升温,待除杂完成后,再通过温度调节机构对储存进行快速降温,之后通过储存机构将降温后的溶剂和4‑氟异喹啉硫酸盐排出,从而提高设备的实用性;包括储存机构;还包括混合机构和温度调节机构,储存机构安装于温度调节机构中,混合机构安装于储存机构上;所述储存机构对溶剂进行储存,混合机构对溶剂进行循环输送,温度调节机构对溶剂温度进行调节。
本实用新型一种4-氟异喹啉硫酸盐杂质去除设备在权利要求书中公布了:1.一种4-氟异喹啉硫酸盐杂质去除设备,包括储存机构;其特征在于,还包括混合机构和温度调节机构,储存机构安装于温度调节机构中,混合机构安装于储存机构上;所述储存机构对溶剂进行储存,混合机构对溶剂进行循环输送,温度调节机构对溶剂温度进行调节;所述储存机构包括除杂箱1和搅拌机构,除杂箱1安装于温度调节机构的内部,并且除杂箱1的顶端设置有进料阀,除杂箱1的后端底部设置有排料阀,搅拌机构安装于除杂箱1上;所述搅拌机构包括搅拌轴2、多组第一喷头3、驱动电机4、齿轮5和齿环6,搅拌轴2转动安装于除杂箱1的顶部,搅拌轴2的底端延伸至除杂箱1的内部,并且搅拌轴2的内部设置有排水通道,多组第一喷头3均安装于搅拌轴2上,驱动电机4安装于除杂箱1的顶端,齿轮5安装于驱动电机4的输出轴上,齿环6安装于搅拌轴2的顶端,并且齿轮5与齿环6啮合连接;所述混合机构包括循环泵7、环形管8、多组循环管9和多组第二喷头10,循环泵7安装于除杂箱1的底端,循环泵7的吸水口与除杂箱1的内部相通,并且循环泵7的吸水口上设置有电控阀11,环形管8安装于循环泵7的排水口上,多组循环管9的一端均安装于环形管8上,多组循环管9的另一端均延伸至除杂箱1的内部,多组第二喷头10分别安装于多组循环管9的另一端上。
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