恭喜安徽应友光电科技有限公司何桥获国家专利权
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龙图腾网恭喜安徽应友光电科技有限公司申请的专利一种用于半导体材料的金属离子清洗剂获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116606704B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310548240.4，技术领域涉及：C11D10/04；该发明授权一种用于半导体材料的金属离子清洗剂是由何桥;黄开贵;李红学设计研发完成，并于2023-05-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于半导体材料的金属离子清洗剂在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体清洗技术领域，包括以下重量份的组分：表面活性剂10%‑16%；三乙醇胺0.1%‑0.2%；苯甲酸钠2%‑5%；磷酸盐4%‑8%；硅酸钠3%‑6%；氢氧化钠0.5%‑1%；油酸0.3%‑0.5%；油醇0.5%‑0.8%；乙醇0.6%‑1%；余量为水，本发明公开了一种用于半导体材料的金属离子清洗剂，本发明清洗剂形成混合均相体系，使得这个清洗剂去污去油能力强，通过清洗剂中多种物质的协同效应和互补效应，清洗后的零件表面光滑，渗透力腔，湿润性好，工艺周期短，化学试剂量小、清洗液浓度低容易冲洗干净，环保性较高。
本发明授权一种用于半导体材料的金属离子清洗剂在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体材料的金属离子清洗剂，其特征在于：包括以下重量百分比的组分：表面活性剂10％-16％；三乙醇胺0.1％-0.2％；苯甲酸钠2％-5％；磷酸盐4％-8％；硅酸钠3％-6％；氢氧化钠0.5％-1％；油酸0.3％-0.5％；油醇0.5％-0.8％；乙醇0.6％-1％；余量为水；所述表面活性剂包括：烷基苯磺酸钠、聚氧乙烯脂肪醇醚、聚氧乙烯辛烷基酚醚、十二烷基二乙醇酰胺、三乙醇胺油酸皂和十二烷基磷酸酯二乙醇胺盐；所述磷酸盐包括焦磷酸钠、三聚磷酸钠、六偏磷酸钠和磷酸三钠；所述烷基苯磺酸钠、聚氧乙烯脂肪醇醚、聚氧乙烯辛烷基酚醚、十二烷基二乙醇酰胺、三乙醇胺油酸皂和十二烷基磷酸酯二乙醇胺盐的重量比为：1:2:2:2:1:1；所述焦磷酸钠、三聚磷酸钠、六偏磷酸钠和磷酸三钠的重量比为：1:3:1:1。
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