恭喜伏尔甘光电私人有限公司K·N·顾获国家专利权
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龙图腾网恭喜伏尔甘光电私人有限公司申请的专利用于选择性检测金属离子的光学传感器获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222800606U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202290000537.6,技术领域涉及:G01N21/45;该实用新型用于选择性检测金属离子的光学传感器是由K·N·顾;M·Q·佘;F·H·宾蒂·贾马鲁丁设计研发完成,并于2022-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于选择性检测金属离子的光学传感器在说明书摘要公布了:一种用于检测样品中的至少一种金属离子的光学传感器100,包括具有一对臂104a,104b的谐振结构102,所述一对臂涂覆有螯合剂以与样品中的金属离子结合。一对臂104a,104b设置有不等宽度的光波导106,以在臂104a,104b中形成不同的光路长度,并产生具有波长偏移的光学干涉图案。图案波长的偏移与样品中金属离子的浓度成正比,并可用于金属离子的定量和原位检测。
本实用新型用于选择性检测金属离子的光学传感器在权利要求书中公布了:1.用于选择性检测样品中的至少一种金属离子的光学传感器100,包括:具有一对臂104a,104b的谐振结构102,所述一对臂具有相等长度和不等宽度以形成光波导106;其中所述一对臂104a,104b中的每一个涂覆有螯合剂,所述螯合剂当与所述样品中的所述至少一种金属离子接触时,与所述至少一种金属离子结合以在所述一对臂104a,104b的至少一部分上形成功能化层,从而改变所述光波导106的折射率,并产生具有与所述样品中的所述至少一种金属离子的浓度成正比的波长偏移的光学干涉图案。
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