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龙图腾网恭喜合肥综合性国家科学中心能源研究院(安徽省能源实验室)申请的专利一种无氧铜表面烧制玻璃绝缘层的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115725823B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211638426.0，技术领域涉及：C21D1/74；该发明授权一种无氧铜表面烧制玻璃绝缘层的方法是由钱玉忠;梁立振;吴亮亮;孟献才;胡纯栋设计研发完成，并于2022-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种无氧铜表面烧制玻璃绝缘层的方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种无氧铜表面烧制玻璃绝缘层的方法，该方法将二氧化硅、三氧化二铝、氧化锆、氧化钠、氧化钾、二氧化钛粉末按照一定比重混合加水配制成釉，采用浸釉方式对打磨、退火、酸洗后的无氧铜进行上釉，之后在氩气氛围中进行烧制。所获得的玻璃绝缘层具有与铜表面结合强度高，玻璃绝缘层在等离子体放电腔体中溅射低、耐压高、易于工业化加工等特点，且该方法对于平面铜和弧面铜均适用，具有极大的应用前景。

本发明授权一种无氧铜表面烧制玻璃绝缘层的方法在权利要求书中公布了：1.一种无氧铜表面烧制玻璃绝缘层的方法，其特征在于，所述方法能够在铜表面制得一层耐高温、耐高压、低二次电子发射系数、耐等离子溅射、与铜表面结合强度高的玻璃绝缘层，能够满足内置型感应耦合射频离子源加速器、离子清洗领域的特殊应用需求；所述方法包括以下步骤：（1）将无氧铜表面打磨处理；将打磨后的无氧铜放入氩气氛围的加热炉中进行退火处理；将退火后的无氧铜表面浸入铜酸抛光液中40-60秒进行酸洗处理；所述的退火处理指无氧铜在800℃的加热炉中并维持1小时后自然降温至50℃；（2）将酸洗后的无氧铜浸入第一密度釉中做浸釉处理；将在第一密度釉中处理后的铜自然风干后，浸入第二密度釉中做二次浸釉处理；其中，第一密度小于第二密度；所述的第一密度釉指以二氧化硅粉末、三氧化二铝粉末、氧化锆粉末、氧化钠粉末、氧化钾粉末和二氧化钛粉末总质量计，二氧化硅、三氧化二铝、氧化锆、氧化钠、氧化钾、二氧化钛按照60wt%，25wt%，3wt%，2wt%，5wt%，5wt%混合粉末，粉末粒度小于300目，将混合粉末加入水，直至密度为2.5gcm3的第一密度釉；所述的第二密度釉指以二氧化硅粉末、三氧化二铝粉末、氧化锆粉末、氧化钠粉末、氧化钾粉末和二氧化钛粉末总质量计，二氧化硅、三氧化二铝、氧化锆、氧化钠、氧化钾、二氧化钛按照60wt%，25wt%，3wt%，2wt%，5wt%，5wt%混合粉末，粉末粒度小于300目，将混合粉末加入水，直至密度达4.5gcm3；（3）将二次浸釉处理后的无氧铜表面自然风干，之后放入加热炉中进行真空密封；（4）将加热炉中的真空度抽至1Pa以下后，开启升温程序；加热炉中温度升至290-300℃时，关闭真空角阀停止抽气，之后向加热炉中充入氩气至0.05-0.07MPa；加热炉继续升温至890-900℃并维持5-10分钟后进行自然降温；自然降温至50℃以下后取出无氧铜，完成对无氧铜表面绝缘玻璃层的烧制。

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