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龙图腾网获悉上海御微半导体技术有限公司申请的专利一种缺陷检测系统及缺陷检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115508364B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211165738.4，技术领域涉及：G01N21/88；该发明授权一种缺陷检测系统及缺陷检测方法是由田依杉;兰艳平设计研发完成，并于2022-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种缺陷检测系统及缺陷检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种缺陷检测系统及缺陷检测方法，包括光线输出模块、光线调节模块、探测模块和处理控制模块；光线输出模块用于输出探测光束；光线调节模块位于探测光束的传输路径上，用于调节探测光束入射至待探测物，待探测物反射探测光束形成成像光束，成像光束携带探测物的缺陷信息；探测模块位于成像光束的传播路径上，形成探测图像；处理控制模块与探测模块连接，用于根据探测图像确定待探测物的缺陷信息；处理控制模块还与光线调节模块连接，用于根据探测需求选择照明模式，照明模式包括明场照明模式、暗场照明模式以及明场暗场混合照明模式。处理控制模块通过对光线调节模块的调节，实现探测光束完成不同的照明模式，满足更多样化的需求。

本发明授权一种缺陷检测系统及缺陷检测方法在权利要求书中公布了：1.一种缺陷检测系统，其特征在于，包括光线输出模块、光线调节模块、探测模块和处理控制模块；所述光线输出模块用于输出探测光束；所述光线调节模块位于所述探测光束的传输路径上，用于调节所述探测光束入射至待探测物，所述待探测物反射所述探测光束形成成像光束，所述成像光束携带所述探测物的缺陷信息；所述探测模块位于所述成像光束的传播路径上，用于根据所述成像光束成像，形成探测图像；所述处理控制模块与所述探测模块连接，用于根据所述探测图像确定所述待探测物的缺陷信息；所述处理控制模块还与所述光线调节模块连接，用于根据探测需求调节所述光线调节模块的工作状态以实现不同的照明模式，所述照明模式包括明场照明模式、暗场照明模式以及明场暗场混合照明模式；其中，所述光线调节模块包括透反单元、运动单元、开关单元和反射单元；所述运动单元和所述开关单元分别与所述处理控制模块连接，所述开关单元设置于所述光线输出模块与所述反射单元之间的光路中；在所述明场照明模式下，所述处理控制模块用于控制所述运动单元带动所述透反单元移入所述光线输出模块与所述开关单元之间的光路中并控制所述开关单元关闭；在所述暗场照明模式下，所述处理控制模块用于控制所述运动单元带动所述透反单元移出所述光线输出模块与所述开关单元之间的光路中并控制所述开关单元打开；在所述明场暗场混合照明模式下，所述处理控制模块用于控制所述运动单元带动所述透反单元移入所述光线输出模块与所述开关单元之间的光路中并控制所述开关单元打开。

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