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龙图腾网恭喜杭州领挚科技有限公司申请的专利DNA合成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115430378B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210944045.9，技术领域涉及：B01J19/08；该发明授权DNA合成方法是由冯林润;刘哲;杜江文设计研发完成，并于2022-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本DNA合成方法在说明书摘要公布了：一种DNA合成芯片和DNA合成方法，所述DNA合成芯片为薄膜晶体管半导体阵列，所述薄膜晶体管半导体阵列包括：多个反应位点和多个由薄膜晶体管构成的反应位点控制单元，并且每个反应位点控制单元都包括至少一个像素电路，所述像素电路由所述薄膜晶体管构成像素寻址和控制，每个反应位点都配置为能够并行合成一条与其他反应位点互相一致或互为不同的DNA链。本申请的DNA合成芯片基于薄膜晶体管进行设计，使得DNA合成反应可以按需地在特定区域像素进行，属于真正意义上的可编程、高通量DNA合成芯片。

本发明授权DNA合成方法在权利要求书中公布了：1.一种DNA合成方法，其特征在于，采用DNA合成芯片进行，所述DNA合成芯片为薄膜晶体管半导体阵列，所述薄膜晶体管半导体阵列包括：多个反应位点、多个由薄膜晶体管构成的反应位点控制单元、液滴驱动工作电极、介电阻隔层、疏水功能层、滴液运动通道和微珠容纳孔；每个反应位点控制单元都包括至少一个像素电路，所述像素电路由所述薄膜晶体管构成像素寻址和控制，每个反应位点都配置为能够并行合成一条与其他反应位点互相一致或互为不同的DNA链；所述液滴驱动工作电极设置在所述像素电路上，所述介电阻隔层设置在所述液滴驱动工作电极远离所述像素电路的一侧上，所述疏水功能层设置在所述介电阻隔层远离所述像素电路的一侧上，所述微珠容纳孔与所述反应位点一一对应，所述多个反应位点通过所述滴液运动通道被间隔开；所述DNA合成方法包括：S1：将作为DNA链合成载体的微珠分散到所述薄膜晶体管半导体阵列的微珠容纳孔中；S2：将用于DNA合成的反应底物和试剂注入所述薄膜晶体管半导体阵列中，所述反应底物和试剂在所述像素电路的控制下被分散成液滴，所述像素电路控制所述液滴驱动工作电极，所述液滴驱动工作电极驱动含有具有第一个目标碱基的反应底物的液滴经由所述滴液运动通道到达所述微珠所在的位置与所述微珠接触并在所述微珠表面进行反应，所述具有第一个目标碱基的反应底物的第一个目标碱基连接到所述微珠上；S3：将含有具有第二个、第三个、第四个、……第N个目标碱基的反应底物的液滴引入到所述微珠所在的位置并进行碱基延伸过程，得到期望的DNA链。

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