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龙图腾网恭喜合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示基板及其制作方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113921580B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111182503.1，技术领域涉及：H10K59/121；该发明授权显示基板及其制作方法、显示装置是由丁录科;方金钢设计研发完成，并于2021-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及其制作方法、显示装置在说明书摘要公布了：本申请提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，显示基板包括衬底、设置在衬底一侧的缓冲层以及设置在缓冲层远离衬底一侧的开关器件层，开关器件层包括薄膜晶体管、层间介质层和信号线，薄膜晶体管包括栅极层和源漏极层，栅极层靠近缓冲层，源漏极层位于栅极层远离缓冲层的一侧，层间介质层位于栅极层和源漏极层之间，信号线位于非显示区；通过在与信号线的位置对应位置处，层间介质层和或缓冲层上开设有凹槽，并使至少部分信号线位于凹槽内，在后续制作彩膜层的过程中可以使与信号线位置对应处的彩膜层厚度增加，由此提高了彩膜层的遮光能力，减小了薄膜晶体管受到外部光照后发生稳定性降低的风险。

本发明授权显示基板及其制作方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底；缓冲层，设置在所述衬底的一侧；开关器件层，设置在所述缓冲层远离所述衬底的一侧，包括薄膜晶体管、层间介质层和信号线，所述薄膜晶体管包括栅极层和源漏极层，所述栅极层靠近所述缓冲层，所述源漏极层位于所述栅极层远离所述缓冲层的一侧，所述层间介质层位于所述栅极层和所述源漏极层之间，所述信号线位于非显示区；其中，在与所述信号线的位置对应位置处，所述层间介质层和或所述缓冲层上开设有凹槽，至少部分所述信号线位于所述凹槽内，在与所述信号线的位置对应位置处，所述信号线上方彩膜层的厚度相应地增加；所述信号线包括数据信号线，所述显示基板还包括设置在所述源漏极层远离所述衬底一侧的彩膜层；所述彩膜层包括第一彩膜层和第二彩膜层，所述第一彩膜层和所述第二彩膜层邻接，所述第一彩膜层和所述第二彩膜层在所述衬底上的正投影与所述数据信号线在所述衬底上的正投影交叠；在所述衬底指向所述缓冲层方向上，所述第一彩膜层和所述第二彩膜层在靠近两者的邻接处具有第一厚度，所述第一彩膜层和所述第二彩膜层在远离两者的邻接处具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度，所述第一厚度与所述第二厚度的差值大于或者等于1微米。

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