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龙图腾网恭喜杜邦电子材料国际有限责任公司申请的专利底层组合物及图案化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114106275B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110946464.1，技术领域涉及：C08G8/04；该发明授权底层组合物及图案化方法是由J·凯茨;刘盛;崔莉;山田晋太郎;J·F·卡梅伦;E·阿卡德;L-S·科;S·M·科莱设计研发完成，并于2021-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本底层组合物及图案化方法在说明书摘要公布了：公开了一种底层组合物，其包含聚合物，所述聚合物包含具有式1的重复单元，其中Ar是单环或多环的C5‑60芳香族基团，其中所述芳香族基团包含一个或多个芳香族环杂原子、包含杂原子的取代基、或其组合；X是C或O；R1、R2、Ra和Rb是如本文所提供的；任选地，R1和R2可以一起形成5元至7元环；任选地，R11至R13中的一个可以与R1一起形成5元至7元环；其中Ra和Rb任选地可以一起形成5元至7元环；其中Ra或Rb中的一个任选地可以与R2一起形成5元至7元环；并且当X是O时，Ra和Rb是不存在的。

本发明授权底层组合物及图案化方法在权利要求书中公布了：1.一种底层组合物，其包含聚合物，所述聚合物包含具有式6-9中的一种或多种的重复单元： 其中，Ar是单环或多环的C5-60亚杂芳基或者单环或多环的C6-60亚芳基，其任选地被以下项中的至少一项取代：取代或未取代的C1-30烷基、取代或未取代的C1-30卤代烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C1-30杂环烷基、取代或未取代的C2-30烯基、取代或未取代的C2-30炔基、取代或未取代的C6-30芳基、取代或未取代的C7-30芳基烷基、取代或未取代的C7-30烷基芳基、取代或未取代的C3-30杂芳基、取代或未取代的C4-30杂芳基烷基、卤素、-OR21、-SR22或-NR23R24，其中R21至R24各自独立地是氢、取代或未取代的C1-30烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C2-30杂环烷基、取代或未取代的C6-30芳基、取代或未取代的C7-30芳基烷基、取代或未取代的C3-30杂芳基、或取代或未取代的C4-30杂芳基烷基，前提是所述单环或多环的C6-60亚芳基被至少一个包含杂原子的取代基取代。

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