恭喜环球晶圆股份有限公司涂俊钦获国家专利权
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龙图腾网恭喜环球晶圆股份有限公司申请的专利用于化学气相沉积系统的窗口及相关方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116096941B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180062841.3，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权用于化学气相沉积系统的窗口及相关方法是由涂俊钦;滨野学;许隆兴设计研发完成，并于2021-08-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于化学气相沉积系统的窗口及相关方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种用于在衬底上沉积层的系统，其包含处理室，所述处理室界定用于将气体引入到所述处理室中的进气口及允许所述气体离开所述处理室的出气口。衬底支撑件定位于所述处理室内且经配置以接收衬底。透明上窗口包含与所述衬底支撑件间隔以在其之间界定气隙的凸形第一面。所述上窗口定位于所述处理室内以引导所述气体从所述进气口通过所述气隙而到所述出气口。所述第一面包含径向外表面及外接于所述外表面内的径向内表面。所述外表面具有第一曲率半径，且所述内表面具有不同于所述第一曲率半径的第二曲率半径。
本发明授权用于化学气相沉积系统的窗口及相关方法在权利要求书中公布了：1.一种用于在衬底上沉积层的系统，所述系统包括：处理室，其界定用于将气体引入到所述处理室中的进气口及允许所述气体离开所述处理室的出气口；衬底支撑件，其经定位于所述处理室内且经配置以接收衬底；及上窗口，其是透明的以使辐射加热光能够穿过所述上窗口，所述上窗口具有与所述衬底支撑件间隔以在其之间界定气隙的第一面，所述上窗口定位于所述处理室内以引导所述气体从所述进气口通过所述气隙而到所述出气口，所述第一面包含径向外表面及外接于所述外表面内的径向内表面，所述外表面具有第一曲率半径，且所述内表面具有不同于所述第一曲率半径的第二曲率半径，其中所述外表面和所述内表面中的每一者为凸形，且其中所述外表面与所述衬底支撑件界定的所述气隙的部分大于所述内表面与所述衬底支撑件界定的所述气隙的部分。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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