恭喜嘉兴傲威半导体有限公司吴昊获国家专利权
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龙图腾网恭喜嘉兴傲威半导体有限公司申请的专利一种晶圆刻蚀方法及其刻蚀装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119252768B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411376259.6，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种晶圆刻蚀方法及其刻蚀装置是由吴昊;冯羽设计研发完成，并于2024-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆刻蚀方法及其刻蚀装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种晶圆刻蚀方法及其刻蚀装置，涉及晶圆刻蚀技术领域；包括刻蚀安装件，所述刻蚀安装件上安装有晶圆密封安装部；所述晶圆密封安装部用于密封晶圆边缘；所述刻蚀安装件上安装有防泄漏增压部；所述防泄漏增压部用于在刻蚀面以下施加气压；所述刻蚀安装件上安装有旋转切换部；所述旋转切换部用于切换不同刻蚀液；可以对晶圆的边缘进行夹持固定，保证刻蚀稳定，采用收缩圈向内同时收缩的方式，可以提高对晶圆夹持的安全性，防止局部夹持造成晶圆碎裂，采用防泄漏增压部可以用于防泄漏加压工作；以解决上述背景技术中提出的目前的晶圆刻蚀装置的加工工艺不便于进行气压防渗漏，也不便于进行刻蚀液隔离预混合的问题。
本发明授权一种晶圆刻蚀方法及其刻蚀装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆刻蚀装置，包括刻蚀安装件1，所述刻蚀安装件1上安装有晶圆密封安装部2；其特征在于：所述晶圆密封安装部2用于密封晶圆边缘；所述刻蚀安装件1上安装有防泄漏增压部3；所述防泄漏增压部3用于在刻蚀面以下施加气压；所述刻蚀安装件1上安装有旋转切换部4；所述旋转切换部4用于切换不同刻蚀液；所述旋转切换部4上安装有升降封闭控制件5；所述升降封闭控制件5用于调节刻蚀液浓度时隔离晶圆；所述旋转切换部4上安装有三个清洁烘干部6；所述刻蚀安装件1包括：密封安装板101和收缩圈102，所述密封安装板101上固定安装有收缩圈102；所述收缩圈102外圈为凸起结构；所述密封安装板101底部安装有三个支撑腿。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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