恭喜ASML荷兰有限公司J-G·C·范德托恩获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利用于在带电粒子装置中进行光学测量的装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113272932B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980087228.X，技术领域涉及：H01J37/02；该发明授权用于在带电粒子装置中进行光学测量的装置是由J-G·C·范德托恩;陈仲玮设计研发完成，并于2019-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于在带电粒子装置中进行光学测量的装置在说明书摘要公布了：带电粒子检查系统可以包括具有孔径或一个以上孔径的屏蔽板，例如，以允许通过附加仪器进行附加检查，该附加仪器需要到感兴趣区域的视线。诸如窗口元件或凸起边缘的场成形元件被放置在孔径处以防止或减少电场的分量。
本发明授权用于在带电粒子装置中进行光学测量的装置在权利要求书中公布了：1.一种电子束检查装置，包括：平坦的板，包括导电材料和限定贯通孔径的结构，所述贯通孔径被配置为定位在晶片台的导电表面上方；以及场成形元件，被定位在所述贯通孔径处，所述场成形元件被配置为：抵消所述贯通孔径对与所述平坦的板相邻的电场的影响，所述场成形元件导电并且透光，其中所述场成形元件包括所述板的与所述贯通孔径相邻的区域，所述区域凸起以限定至少部分地围绕所述孔径的凸起边缘，所述凸起边缘包括导电材料。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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