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龙图腾网恭喜欧瑞康表面解决方案股份公司,普费菲孔申请的专利等离子体源的用于执行等离子体处理的电极装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113366600B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980091443.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体源的用于执行等离子体处理的电极装置是由J·费特尔设计研发完成，并于2019-12-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体源的用于执行等离子体处理的电极装置在说明书摘要公布了：为了改善衬底的蚀刻深度和或蚀刻均匀性，提出了一种具有一个或多个蒸发器和两个或更多个按照本发明的电极的等离子体源。使用超过一个电极允许在电极处使用不同电流以及这些电流的时间选择性的应用，使得能够实现其对等离子体产生的经改善的控制。

本发明授权等离子体源的用于执行等离子体处理的电极装置在权利要求书中公布了：1.一种用于执行等离子体处理的真空室，所述真空室包括等离子体处理区以及等离子体源，所述等离子体处理区被室壁所包围，所述等离子体源包括：用于阴极真空电弧蒸发的阴极110、210、220、310、320、330和与所述室连接的电弧阳极，其中所述阴极在所述室中布置于室壁上；用于屏蔽由所述阴极发射的粒子和金属离子的屏蔽件115、230、332、333、334，其中所述屏蔽件115、230、332、333、334设置于所述真空室中，使得所述屏蔽件能够被布置于所述阴极110、210、220、310、320、330前面；与所述阴极110、210、220、310、320、330间隔开的、布置于所述室中的电极120、120a、130、140、240、250、340、350、360，其中所述电极固定在所述真空室的壁上或至少部分地布置在室壁中；其特征在于，所述电极120、120a、130、140、240、250、340、350、360包括用于捕捉由所述阴极110、210、220、310、320、330发射的电子的二维表面，而且所述二维表面具有相对于表面法线的第一正交伸展和第二正交伸展，其中所述第一正交伸展垂直于第二正交伸展，其中所述第一正交伸展与所述第二正交伸展的长度比在0.1与1之间。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人欧瑞康表面解决方案股份公司,普费菲孔，其通讯地址为：瑞士普费菲孔；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。