恭喜朗姆研究公司安吉拉·海克获国家专利权
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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利蚀刻剂组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112385019B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980045966.8，技术领域涉及：H01L21/3213；该发明授权蚀刻剂组合物是由安吉拉·海克;王洪志;大卫·罗设计研发完成，并于2019-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本蚀刻剂组合物在说明书摘要公布了：本发明涉及一种蚀刻剂组合物，尤其是涉及一种水性掩模层蚀刻剂组合物，其用于从衬底例如半导体晶片的表面将钨掺杂的碳掩模层移除。该组合物包含：a基于该组合物的总重量，10到40wt.％的过氧化氢；以及b基于该组合物的总重量，0.1到2.0wt.％的一或多种腐蚀抑制剂。
本发明授权蚀刻剂组合物在权利要求书中公布了：1.一种水性蚀刻剂组合物，所述组合物包含：a.基于所述组合物的总重量，30到32wt.％的过氧化氢；以及b.基于所述组合物的总重量，0.1到2.0wt.％的一或多种腐蚀抑制剂，基于所述组合物的总重量，其包含0.4到0.6wt.％的甲苯基三唑TTA，其中所述组合物实质上不含额外的蚀刻剂添加物。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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