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龙图腾网恭喜蓝河科技(绍兴)有限公司申请的专利半导体处理设备的控制方法和半导体处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119764224B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510258413.8，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权半导体处理设备的控制方法和半导体处理设备是由王明辉;邢志刚;徐春阳;刘雷设计研发完成，并于2025-03-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体处理设备的控制方法和半导体处理设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种半导体处理设备的控制方法和半导体处理设备，半导体处理设备包括设有检测装置、控制模块和压力传感装置的半导体处理腔体，半导体处理腔体设有正压吹扫控制管路、负压进气控制管路和抽排气控制管路，控制方法包括：控制模块判断检测物信息包括含水氧后，根据压力信息控制正压吹扫控制管路使半导体处理腔体内连续通入和排出吹扫气体；控制模块判断检测物信息包括含有害物后，根据压力信息控制抽排气控制管路和负压进气控制管路，以使半导体处理腔体内的压力在负压设定范围下分别对半导体处理腔体执行通入吹扫气体的操作和进行抽排气控制的操作。本发明解决现有技术中采用正压吹扫容易导致有害物质泄漏扩散到环境中的安全隐患问题。

本发明授权半导体处理设备的控制方法和半导体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体处理设备的控制方法，其特征在于，包括执行正压吹扫控制步骤或负压吹扫控制步骤，所述正压吹扫控制步骤包括正压连续吹扫控制步骤；所述半导体处理设备包括设有检测装置、控制模块和压力传感装置的半导体处理腔体，所述半导体处理腔体设有正压吹扫控制管路、负压进气控制管路和抽排气控制管路，所述半导体处理腔体内放置有待处理物；所述正压连续吹扫控制步骤包括：所述控制模块根据所述检测装置发送的检测物信息判断为含水氧以及控制所述负压进气控制管路和所述抽排气控制管路为关闭状态后，根据所述压力传感装置发送的压力信息控制所述正压吹扫控制管路，以使所述半导体处理腔体内连续通入和排出吹扫气体，以及使所述半导体处理腔体内的压力在正压设定范围内；所述负压吹扫控制步骤包括：所述控制模块根据所述检测装置发送的检测物信息判断为含有害物以及控制所述正压吹扫控制管路为关闭状态后，根据所述压力传感装置发送的压力信息控制所述抽排气控制管路和所述负压进气控制管路，以使所述半导体处理腔体内的压力在负压设定范围下分别对所述半导体处理腔体执行通入所述吹扫气体的操作和进行抽排气控制的操作。

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