恭喜上海邦芯半导体科技有限公司仲凯获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海邦芯半导体科技有限公司申请的专利一种TSV刻蚀设备及清洁方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119480605B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510072606.4,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权一种TSV刻蚀设备及清洁方法是由仲凯;涂乐义;桂智谦;梁洁;王兆祥;胥沛雯设计研发完成,并于2025-01-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种TSV刻蚀设备及清洁方法在说明书摘要公布了:本说明书实施例提供一种TSV刻蚀设备及清洁方法,TSV刻蚀设备包括腔体、静电吸盘和下电极模块,下电极模块安装于腔体内,静电吸盘安装于下电极模块顶部,下电极模块包括下电极和支撑部,支撑部与腔体内底壁相连接;隔离网板设置于静电吸盘和腔体之间;吹扫机构包括供气管路和吹扫部,吹扫部绕支撑部设置,供气管路用于对吹扫部进行供气,吹扫部对粘附于支撑部上的聚合物进行吹扫;风子泵上连接有抽气管,抽气管延伸到腔体内部。通过设置吹扫机构对支撑部进行吹扫,供气管路用于对吹扫部进行供气,吹扫部将粘附于支撑部上的聚合物进行吹扫,风子泵将支撑部上被吹扫下来的聚合物抽出,实现对静电吸盘下方的下电极模块的清洁操作。
本发明授权一种TSV刻蚀设备及清洁方法在权利要求书中公布了:1.一种TSV刻蚀设备,所述TSV刻蚀设备包括腔体、静电吸盘和下电极模块,所述下电极模块安装于所述腔体内,所述静电吸盘安装于所述下电极模块顶部,所述静电吸盘用于吸附晶圆,其特征在于,所述下电极模块包括下电极和支撑部,所述支撑部与所述腔体内底壁相连接,所述下电极设置于所述支撑部顶部;所述TSV刻蚀设备还包括:隔离网板,所述隔离网板设置于所述静电吸盘和所述腔体之间,所述隔离网板的外侧与所述腔体内壁之间相连接;吹扫机构,所述吹扫机构包括供气管路和吹扫部,所述吹扫部绕所述支撑部设置,所述供气管路用于对所述吹扫部进行供气,所述吹扫部对粘附于所述支撑部上的聚合物进行吹扫,所述吹扫机构还包括升降部,所述升降部用于带动所述吹扫部沿着所述支撑部的轴向运动,以实现对所述支撑部的全面吹扫;风子泵,所述风子泵上连接有抽气管,所述抽气管延伸到所述腔体内部。
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