杭州众硅电子科技有限公司顾海洋获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州众硅电子科技有限公司申请的专利一种电化学机械抛光及平坦化装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222843823U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421135578.3，技术领域涉及：B24B37/10；该实用新型一种电化学机械抛光及平坦化装置是由顾海洋;时泽健;朱政挺;朱自强;杨渊思设计研发完成，并于2024-05-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种电化学机械抛光及平坦化装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种电化学机械抛光及平坦化装置，至少包括抛光头，该抛光头包括有：抛光头本体；硬质导电盘，用于吸附晶圆衬底；导电驱动单元，其至少部分可与电源相连，其至少部分与硬质导电盘接触并传动配合，以驱动硬质导电盘周向转动；活动间隙，形成于抛光头本体和导电驱动单元之间，和或，形成于导电驱动单元和硬质导电盘之间，和或，形成于硬质导电盘和抛光头本体之间；保持环，可与抛光垫接触的环形部件，硬质导电盘在该保持环限定的区域内活动。本实用新型利用硬质导电盘，实现抛光头和晶圆衬底之间的电路导通进行电化学机械抛光，可保障电化学反应的长期稳定性；利用硬质导电盘负压吸附晶圆衬底，解决了柔性膜被拉扯导致破裂的问题。
本实用新型一种电化学机械抛光及平坦化装置在权利要求书中公布了：1.一种电化学机械抛光及平坦化装置，其特征在于，至少包括抛光头，该抛光头包括有：抛光头本体1；硬质导电盘2，其下表面至少部分位于同一平面，用于吸附晶圆衬底；导电驱动单元3，其至少部分可与电源相连，其至少部分与所述硬质导电盘2接触并传动配合，以驱动硬质导电盘2周向转动；活动间隙4，形成于所述抛光头本体1和导电驱动单元3之间，和或，形成于所述导电驱动单元3和硬质导电盘2之间，和或，形成于所述硬质导电盘2和抛光头本体1之间；保持环5，可与抛光垫接触的环形部件，所述硬质导电盘2在该保持环5限定的区域内活动。
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