恭喜本源量子计算科技(合肥)股份有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网恭喜本源量子计算科技(合肥)股份有限公司申请的专利一种掩模版和光刻胶层获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222846791U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420369197.5，技术领域涉及：C23C14/04；该实用新型一种掩模版和光刻胶层是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2024-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩模版和光刻胶层在说明书摘要公布了：本申请公开了一种掩模版和光刻胶层，属于量子芯片制造领域。掩模版包括非透光的主体部，以及在主体部中分布的第一窗口和第二窗口。两个窗口彼此形成有重叠部。该重叠部所在区域分别小于第一窗口和第二窗口对应尺寸，从而使得重叠部能够具有更小的尺寸，进而可以由于通过这样的方案来扩展制造设备的所能够实现的工艺精度和线宽。
本实用新型一种掩模版和光刻胶层在权利要求书中公布了：1.一种掩模版，用于通过光刻将图形转移以图形化光阻薄膜，其特征在于，掩模版包括：非透光的主体部；以及在主体部中分布以形成所述图形的第一窗口和第二窗口；第一窗口具有第一矩形部，第二窗口具有第二矩形部，第一矩形部具有第一宽度和第一长度，第二矩形部具有第二宽度和第二长度；第一矩形部与第二矩形部布局形成矩形的重叠部，所述重叠部具有第三宽度和第三长度，第三宽度小于第一宽度、并且也小于第二宽度，第三长度小于第一宽度、并且也小于第二宽度。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人本源量子计算科技(合肥)股份有限公司，其通讯地址为：230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期E2楼六层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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