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龙图腾网恭喜合肥工业大学申请的专利一种磁共振梯度线圈系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116148736B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310268520.X，技术领域涉及：G01R33/385；该发明授权一种磁共振梯度线圈系统是由胡亮亮;刘宇;廖明照;胡棕源;李亚峰;徐进章;詹昊霖设计研发完成，并于2023-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种磁共振梯度线圈系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种磁共振梯度线圈系统，涉及磁共振制造技术领域，包括内管及多层线圈膜体，每层所述线圈膜体均由基体和埋设在基体内的线圈层制成，在设备制备时，首先根据目标尺寸设定线圈膜体层数，然后进行线圈膜体的初步制备后，进行尺寸验证，当误差尺寸超过设定值时进行装配参数的调整；再次进行各线圈膜体的制备并在新的装配参数下进行装配，当误差尺寸大于目标误差而小于δ时将误差值平均后作为线圈层在对应基体内的调整依据，并重新加工线圈膜体后在相同的装配参数下进行装配并再次进行尺寸验证，重复进行，直至误差尺寸小于目标尺寸；本发明能够有降低磁共振梯度线圈系统制备过程中的误差，有效提高成品设备的质量。

本发明授权一种磁共振梯度线圈系统在权利要求书中公布了：1.一种磁共振梯度线圈系统，包括内管及由内向外依次嵌套在一起的多层线圈膜体，且最内层的线圈膜体套设在所述内管的外壁上，其特征在于，每层所述线圈膜体均由基体和埋设在基体内的线圈层制成；所述磁共振梯度线圈系统的制备方法包括：步骤1、设定最外层基体外径的目标尺寸为D，根据D确定所需线圈膜体的层数M；步骤2、对M层线圈膜体分别进行制备，并按照安装完成后由内向外的顺序依次对每个线圈膜体进行编号，其中m号线圈膜体对应的基体与线圈层在所述内管径向上的尺寸与m+1号线圈膜体对应的基体与线圈层在所述内管径向上的厚度分别相同，m＝{1,2,3...M-1}；每个基体在内管径向上的尺寸均为L基，每个线圈层在内管径向上的尺寸均为L线，L基＞L线，每个所述线圈层均完全埋设在对应基体内，初始时每个所述线圈层与对应基体同轴分布，且每个所述线圈层在内管径向上的内外壁与对应基体内外壁间的距离均不小于α，α为安全系数；步骤3、设定装配参数，按由内向外的顺序对M层线圈膜体依次装配，装配完成后获取最外层基体的外径d外；步骤4、若|D-d外|≥δ，则返回步骤2且在进行到步骤3时设定新的装配参数；若A＜D-d外＜δ，则返回步骤2，并在制备每层线圈膜体时令对应的线圈层在内管径向上的位置移动其中D-d外为正值时外移，为负值时则内移，若|D-d外|≤A则进行步骤5；其中A为目标误差；步骤5、将最后一次进行步骤2时每层基体与对应线圈层的相对位置关系、进行步骤3时设定的装配参数分别作为制备参数和装配参数进行线圈膜体的批量制备及装配，获得所述磁共振梯度线圈系统。

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