恭喜中微半导体设备(上海)股份有限公司王乔慈获国家专利权
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龙图腾网恭喜中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利限制环、等离子体处理装置及气压控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115249604B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110453308.1，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权限制环、等离子体处理装置及气压控制方法是由王乔慈;赵军设计研发完成，并于2021-04-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本限制环、等离子体处理装置及气压控制方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种用于等离子处理装置的限制环，所述等离子处理装置包含一反应腔，所述反应腔内设置一用于支撑晶圆的基座，所述限制环为多层结构，所述限制环的每层包含若干个限制单元，若干个限制单元形成一环形结构，所述限制单元设置在基座外围与反应腔侧壁之间；每个限制单元包含：多个弧形件及伸缩机构，所述多个弧形件同心且沿其径向分立设置，所述伸缩机构用于驱动所述多个弧形件沿弧形件径向运动，以在相邻的弧形件之间形成气体通道。本发明还提供一种等离子体处理装置及一种等离子体处理装置的气压控制方法。所述限制环的高度可调。
本发明授权限制环、等离子体处理装置及气压控制方法在权利要求书中公布了：1.一种用于等离子处理装置的限制环，所述等离子处理装置包含一反应腔，所述反应腔内设置一用于支撑晶圆的基座，其特征在于，所述限制环为多层结构；所述限制环的每层能够独立地熄灭等离子体，或者与其他层配合共同熄灭等离子体；所述限制环的每层包含若干个限制单元，若干个限制单元形成一环形结构，所述限制单元设置在基座外围与反应腔侧壁之间；每个限制单元包含：多个弧形件及伸缩机构，所述多个弧形件同心且沿其径向分立设置，所述伸缩机构用于驱动所述多个弧形件沿弧形件径向运动，以在相邻的弧形件之间形成气体通道。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中微半导体设备(上海)股份有限公司，其通讯地址为：201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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