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龙图腾网恭喜中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利一种等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115050623B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110251618.5，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种等离子体处理装置是由廉晓芳;周艳;徐朝阳设计研发完成，并于2021-03-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种等离子体处理装置，包含：真空反应腔，真空反应腔内具有下电极组件，真空反应腔腔体开设有排气口以将真空反应腔内部的气体排出；等离子体约束装置，其环绕设置于下电极组件的外侧；气流均衡组件，其设置于等离子体约束装置和排气口之间，气流均衡组件内包含若干个交错排列的隔板，交错排列的隔板之间形成一非直线的气路通道，用于延长真空反应腔内的气体经所述等离子体约束装置到所述排气口的距离。其优点是：该装置通过将等离子体约束装置、气流均衡组件等相结合，通过气流均衡组件增加气体行走路径，减缓了等离子体约束装置和排气口之间的气体流速，有助于调控晶圆刻蚀效果，进一步避免了晶圆表面造成污染。

本发明授权一种等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包含：真空反应腔，所述真空反应腔内具有下电极组件，所述真空反应腔腔体开设有排气口以将所述真空反应腔内部的气体排出；等离子体约束装置，其环绕设置于所述下电极组件的外侧；气流均衡组件，其设置于所述等离子体约束装置和所述排气口之间，所述气流均衡组件内包含若干个交错排列的隔板，所述交错排列的隔板之间形成一非直线的气路通道，用于延长所述真空反应腔内的气体经所述等离子体约束装置到所述排气口的距离；所述气流均衡组件包括第一区域和第二区域，所述第一区域到排气口的距离小于所述第二区域到排气口的距离；所述第一区域内的气体流通速率小于所述第二区域内的气体流通速率；位于所述第一区域的隔板数量大于位于所述第二区域的隔板数量，各个所述隔板部分平行排列，部分以渐变的趋势以实现隔板数量的转换；所述隔板上开设有气流孔以供气体流通，位于所述第一区域的隔板上的气流孔交替设置，所述第一区域的气流孔数量小于所述第二区域的气流孔数量。

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