买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜联华电子股份有限公司申请的专利考虑整体特征与局部特征的半导体工艺预测方法与装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114819242B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110118090.4，技术领域涉及：G06Q10/04；该发明授权考虑整体特征与局部特征的半导体工艺预测方法与装置是由侯信铭设计研发完成，并于2021-01-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本考虑整体特征与局部特征的半导体工艺预测方法与装置在说明书摘要公布了：一种考虑整体特征与局部特征的半导体工艺预测方法与装置。半导体工艺预测方法包括以下步骤。获得数个机台感测曲线。筛选这些机台感测曲线，以降低这些机台感测曲线的共线性。以一动态时间校正程序对这些机台感测曲线进行校正。输入已校正的这些机台感测曲线至一卷积神经网络模型，以获得考虑局部特征的一第一预测结果。对这些机台感测曲线进行一统计分析程序，以获得数个统计数据。输入这些统计数据至一人工神经网络模型，以获得考虑整体特征的一第二预测结果。依据第一预测结果及第二预测结果，获得一总预测结果。

本发明授权考虑整体特征与局部特征的半导体工艺预测方法与装置在权利要求书中公布了：1.一种考虑整体特征与局部特征的半导体工艺预测方法，包括：获得多个机台感测曲线；筛选这些机台感测曲线，以降低这些机台感测曲线的共线性；以动态时间校正程序dynamictimewarping，DTW对已降低共线性的这些机台感测曲线进行校正；输入已进行动态时间校正程序的这些机台感测曲线至卷积神经网络模型ConvolutionalNeuralNetworkmodel，CNNmodel，以获得考虑局部特征的第一预测结果；对这些机台感测曲线进行统计分析程序，以获得多个统计数据；输入这些统计数据至人工神经网络模型ArtificialNeuralNetworkmodel，ANNmodel，以获得考虑整体特征的第二预测结果；以及依据考虑局部特征的该第一预测结果及考虑整体特征的该第二预测结果，获得总预测结果；其中同一批的这些机台感测曲线输入该卷积神经网络模型与该人工神经网络模型，以对同一批的这些机台感测曲线获得考虑局部特征的该第一预测结果及考虑整体特征的该第二预测结果。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人联华电子股份有限公司，其通讯地址为：中国台湾新竹市；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。