恭喜芯越微电子材料(嘉兴)有限公司刘江华获国家专利权
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龙图腾网恭喜芯越微电子材料(嘉兴)有限公司申请的专利一种低蚀刻率显影液组合物及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112394622B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011027026.7，技术领域涉及：G03F7/32；该发明授权一种低蚀刻率显影液组合物及其制备方法是由刘江华;张建;贾亚军;冯纪恒设计研发完成，并于2020-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低蚀刻率显影液组合物及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低蚀刻率显影液组合物及其制备方法，包括烷基萘磺酸盐、非离子表面活性剂、碱金属盐、高纯水、烷基萘磺酸盐0.2‑10％、非离子表面活性剂0.01‑10％、碱金属盐0.1‑10％以及高纯水70‑96.9％。本发明的光刻胶显影液具有较低的基底材料蚀刻率，显影过程不会造成基底腐蚀，同时该显影液还具有分散稳定性高、泡沫少、操作窗口大、显影图案清晰、后光刻胶无残留无基底腐蚀等特点。
本发明授权一种低蚀刻率显影液组合物及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种低蚀刻率显影液组合物，其特征在于：由烷基萘磺酸盐、非离子表面活性剂、碱金属盐、高纯水组成；所述烷基萘磺酸盐比重为0.2-10％、所述非离子表面活性剂比重为0.01-10％、所述碱金属盐比重为0.1-10％、所述高纯水比重为70-96.9％；所述烷基萘磺酸盐的结构式为其中M为Na、K、Mg、Al、Ca中的一种或几种，R为C原子个数为1-20的直链或支链烷烃，其中n的个数为1-5；所述非离子表面活性剂为长链脂肪醇聚氧乙烯醚、多元醇聚氧乙烯醚系列中的一种或几种。
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