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龙图腾网恭喜四川奇石缘科技股份有限公司申请的专利一种密封结构及具有密封结构的设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111963682B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010992216.6，技术领域涉及：F16J15/06；该发明授权一种密封结构及具有密封结构的设备是由戴星;汤世友;魏川;罗资革设计研发完成，并于2020-09-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种密封结构及具有密封结构的设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种密封结构及具有密封结构的设备，属于工装器具技术领域。一种密封结构，包括：结构件，包括封装件，其设有凹槽及与所述凹槽底部连通的通孔；密封体，其设于所述封装件上；导电器件，其安装于所述凹槽中；隔腔，其为所述结构件按预设距离分布形成，由绝缘密封流体填充；导线，其贯穿所述通孔或隔腔与导电器件连接。通过隔腔内填充绝缘密封流体及阶段性导线与导电器件的设置，实现设备内部与外部流体介质、气体介质的多层隔离，达到设备密封目的，进一步提高设备的精准度。

本发明授权一种密封结构及具有密封结构的设备在权利要求书中公布了：1.一种密封结构，其特征在于，包括：结构件，包括封装件，其设有凹槽及与所述凹槽底部连通的通孔；密封体，其设于所述封装件上；导电器件，其安装于所述凹槽中；隔腔，其为所述结构件按预设距离分布形成，由绝缘密封流体填充；导线，其贯穿所述通孔或隔腔与导电器件连接；所述封装件包括端盖和至少一个隔板，所述隔板始终位于所述端盖一侧；所述凹槽包括开设于所述隔板上的第一凹槽；及开设于所述端盖上的第二凹槽；所述通孔包括开设于所述第一凹槽底部的第一通孔；及开设于所述第二凹槽底部的第二通孔；所述导电器件包括安装于所述第一凹槽内的第一导体；及安装于所述第二凹槽内的第二导体；所述导线包括贯穿于所述第一通孔与所述第一导体连接的第一导线；及贯穿于所述第二通孔与所述第二导体连接的第二导线；和穿过所述绝缘密封流体且一端与所述第一导体连接，另一端与所述第二导体连接的第三导线；所述端盖和所述隔板按预设距离设立后，安装有所述第一导体的隔板侧壁面和安装有所述第二导体端盖侧壁面均与所述隔腔内的所述绝缘密封流体紧邻。

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