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龙图腾网恭喜电子科技大学申请的专利一种基于模型分辨率矩阵的散射介质成像中的图像重构方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119850431B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510337473.9，技术领域涉及：G06T5/00；该发明授权一种基于模型分辨率矩阵的散射介质成像中的图像重构方法是由姜盼秋;吴佳;汪平河设计研发完成，并于2025-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于模型分辨率矩阵的散射介质成像中的图像重构方法在说明书摘要公布了：一种基于模型分辨率矩阵的散射介质成像中的图像重构方法，涉及散射介质成像技术。光经过散射介质后会形成散斑，矩阵方法能解决散射介质的聚焦和成像问题。但是，在使用矩阵方法进行散射介质图像重构时存在困难。本发明使用基尔霍夫正则化对反演过程进行修正，并从中提取出模型分辨率矩阵。模型分辨率矩阵代表了反演结果对真实模型的加权程度，即包含目标信号的单次散射光子主要由对应位置的信息构成，而主要成分为噪声的多次散射光子由对应位置及其周围位置的信息加权而成。通过对模型分辨率矩阵的对角值进行贡献率分析，可以提取出清晰的目标图像，图像信噪比和结构相似度高。

本发明授权一种基于模型分辨率矩阵的散射介质成像中的图像重构方法在权利要求书中公布了：1.一种基于模型分辨率矩阵的散射介质成像中的图像重构方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：对测量得到的样品传输矩阵进行奇异值分解处理；所述奇异值分解处理具体为将样品传输矩阵分解为两个酉矩阵U和V、一个奇异值矩阵S；步骤2：使用偏差度准则法选取最佳的正则化参数，然后基于基尔霍夫正则化准则对反演过程进行修正；基于基尔霍正则化对反演过程进行修正：Ecal＝VFS-1UT★Emeasure； 其中，Ecal表示反演后得到的入射矩阵，Emeasure表示实际测量得到的矩阵，F是作为修正矩阵的一个对角矩阵，fi为矩阵F的对角元素，si为奇异值矩阵矩阵S的对角值，λ表示正则化参数；正则化参数λ使用偏差度准则法选取： 其中，eest是使用不同正则化参数λ获得的估计电场，通过入射矩阵Ecal的计算公式得到，||||表示取绝对值运算，η是标准值；emea是实际测量得到的光场；步骤3：提取模型分辨率矩阵；模型分辨率矩阵表示为Model_Rm：Model_Rm＝VFVT；步骤4：基于贡献率原理提取出目标图像；所述模型分辨率矩阵的对角值中包括单次散射光子或多次散射光子的信息，将该对角值定义为贡献率，将对应位置处的点的贡献率进行比较，提取出与1更接近的值，重构得到目标图像。

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