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龙图腾网恭喜无锡尚积半导体科技股份有限公司申请的专利出气位可调的多级进气ICP刻蚀装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119742216B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510253622.3，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权出气位可调的多级进气ICP刻蚀装置是由张超;俞铭洋;丁聪;葛青涛;王世宽;宋永辉设计研发完成，并于2025-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本出气位可调的多级进气ICP刻蚀装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种出气位可调的多级进气ICP刻蚀装置，包括工作腔、载台、射频电源和进气机构，进气机构包括第一通气件、第二通气件和第一遮板，第一通气件上设有进气通道和N个一级气流通道，第二通气件上设有N组二级气流通道，任一二级气流通道的一端正对一个一级气流通道、另一端分岔形成至少两个二级气道，第一遮板可转动地设于第一通气件和第二通气件之间，第一遮板上设有N个第一连通孔和N‑1个第二连通孔；最终出气口开设在进气机构的外周壁上，能够有效提高工作腔内边缘区域的反应气体浓度；出现偏边现象时，使得第一遮板遮挡对应位置的一级气流通道、使得用于覆盖出现偏边现象区域的二级气道不再出气，能够改善刻蚀均匀性。

本发明授权出气位可调的多级进气ICP刻蚀装置在权利要求书中公布了：1.一种出气位可调的多级进气ICP刻蚀装置，其特征在于，包括：工作腔，用于为晶圆刻蚀提供空间；载台，设于所述工作腔内，用于承托晶圆；射频电源，用于向所述载台供电，所述载台通电后能够电离反应气体并吸引等离子体轰击晶圆；进气机构，用于引导反应气体通入所述工作腔；所述进气机构包括：第一通气件，设置呈圆盘状，所述第一通气件上设有进气通道和N个一级气流通道，所述进气通道设于所述第一通气件的圆心处、用于连通供气设备，任一所述一级气流通道径向延伸、一端连通所述进气通道、另一端贯穿所述第一通气件的外周壁，多个所述一级气流通道圆形阵列布置；第二通气件，设置呈圆环状、并环设于所述第一通气件外，所述第二通气件上设有N组二级气流通道，任一所述二级气流通道的一端正对一个所述一级气流通道，另一端分岔形成至少两个二级气道，所述二级气道贯穿所述第二通气件的外周壁；第一遮板，设置呈圆环状、并可转动地设于所述第一通气件和所述第二通气件之间，所述第一遮板上设有N个第一连通孔和N-1个第二连通孔；其中，N为不小于2的自然数；旋转所述第一遮板能够将所述第一遮板切换为第一状态或者第二状态；所述第一遮板处于所述第一状态时，所述第一连通孔与所述一级气流通道一一对应连通，反应气体能够通过所述第一通气件和所述第二通气件全面吹入所述工作腔；所述第一遮板处于所述第二状态时，任一所述第二连通孔与一个所述一级气流通道连通，存在一个所述一级气流通道被遮挡，反应气体无法从被遮挡处吹出，从而减小被遮挡处的反应气体浓度和等离子体浓度，进而减小晶圆对应部位的刻蚀程度。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人无锡尚积半导体科技股份有限公司，其通讯地址为：214000 江苏省无锡市新吴区长江南路35-312号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。