恭喜全芯智造技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网恭喜全芯智造技术有限公司申请的专利用于OPC建模的方法、设备和存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119781257B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510259522.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于OPC建模的方法、设备和存储介质是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于OPC建模的方法、设备和存储介质在说明书摘要公布了：根据本公开的示例实施例提供了用于OPC建模的方法、设备和存储介质。该方法包括：获取用于光刻的目标光源的多个峰值波长和分别与多个峰值波长相对应的多个累计辐射功率密度；确定分别与多个峰值波长相对应的多个光学信号，多个光学信号中的光学信号指示与波长相关的光学特性；基于多个累计辐射功率密度和多个光学信号，确定多个光学信号的加权平均；以及基于多个光学信号的加权平均，构建光学邻近校正OPC模型。以此方式，可以构建适用于宽频带光源的OPC模型，从而可以补偿采用宽频带光源进行光刻的过程中的光学失真，使最终形成的图形更接近设计要求。
本发明授权用于OPC建模的方法、设备和存储介质在权利要求书中公布了：1.一种用于OPC建模的方法，其特征在于，包括：获取用于光刻的目标光源的多个峰值波长和分别与所述多个峰值波长相对应的多个累计辐射功率密度；确定分别与所述多个峰值波长相对应的多个光学信号，所述多个光学信号中的光学信号指示与波长相关的光学特性；基于所述多个累计辐射功率密度和所述多个光学信号，确定所述多个光学信号的加权平均；以及基于所述多个光学信号的加权平均，构建光学邻近校正OPC模型。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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