恭喜合肥晶合集成电路股份有限公司叶伟获国家专利权
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龙图腾网恭喜合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利一种掩膜版及测试键的摆放方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119668020B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510185997.0,技术领域涉及:G03F1/44;该发明授权一种掩膜版及测试键的摆放方法是由叶伟;魏姣阳;余仁;张新秀;徐明睿设计研发完成,并于2025-02-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩膜版及测试键的摆放方法在说明书摘要公布了:本发明提供了一种掩膜版及测试键的摆放方法,掩膜版包括芯片图形区,多个芯片图形区阵列排布,以形成芯片区域;内切割道区,设置于相邻两行的芯片图形区之间;以及测试键,设置于内切割道区上;其中,芯片区域被划分为依次相连的第一外围区域、中心区域以及第二外围区域;将第一外围区域与第二外围区域的多个测试键按照顺序依次设于对应的内切割道区内;将中心区域的测试键以位于中心处的内切割道区的中心处为中心,呈向外扩散状设置。通过本发明提供的一种掩膜版及测试键的摆放方法,以使摆放的测试键能够满足特殊测量需求。
本发明授权一种掩膜版及测试键的摆放方法在权利要求书中公布了:1.一种掩膜版,其特征在于,包括:芯片图形区,多个所述芯片图形区阵列排布,以形成芯片区域;内切割道区,设置于相邻两行的所述芯片图形区之间;以及测试键,设置于所述内切割道区上;其中,所述芯片区域被划分为依次相连的第一外围区域、中心区域以及第二外围区域;将所述第一外围区域与所述第二外围区域的多个测试键按照顺序依次设于对应的内切割道区内;所述第一外围区域被划分为相连的第一区域与第二区域,所述第二外围区域被划分为相连的第三区域与第四区域,位于所述第一区域、所述第二区域、所述第三区域以及所述第四区域中的内切割道区的数量相等;位于所述中心区域的内切割道区的数量大于位于所述第一区域的内切割道区的数量;将所述中心区域的测试键以位于中心处的内切割道区的中心处为中心,呈向外扩散状设置。
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