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龙图腾网恭喜灿芯半导体(上海)股份有限公司申请的专利一种应用于ADC的高速高精度电容阵列获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119561553B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510098436.7，技术领域涉及：H03M1/12；该发明授权一种应用于ADC的高速高精度电容阵列是由林志伦;岳庆华;庄志青设计研发完成，并于2025-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种应用于ADC的高速高精度电容阵列在说明书摘要公布了：本发明公开了一种应用于ADC的高速高精度电容阵列，属于ADC的电容技术领域，该电容阵列经由多个单位电容按规则排布，并在两侧加上侧边屏蔽电容组成；其中，电容阵列为多行结构，每一行的最左侧为侧边屏蔽电容，作为第0个电容，从第1个到第j个为单位电容；单位电容的左侧顶板金属与第0个电容的右侧顶板金属连接重合；前1个单位电容的右侧顶板金属与相邻后1个单位电容的左侧顶层金属重合；第j+1个为左右翻转的侧边屏蔽电容。本发明通过优化电容单元、侧边屏蔽电容以及电容阵列的排布，减小的电容顶板以及电容底板的寄生，并提高ADC的匹配度，特别适用于先进工艺下的高速高精度ADC。

本发明授权一种应用于ADC的高速高精度电容阵列在权利要求书中公布了：1.一种应用于ADC的高速高精度电容阵列，其特征在于，该电容阵列经由多个单位电容按规则排布，并在两侧加上侧边屏蔽电容组成；其中，电容阵列为多行结构，每一行的最左侧为侧边屏蔽电容，作为第0个电容，从第1个到第j个为单位电容；单位电容的左侧顶板金属与第0个电容的右侧顶板金属连接重合；前1个单位电容的右侧顶板金属与相邻后1个单位电容的左侧顶层金属重合；第j+1个为左右翻转的侧边屏蔽电容，同时左右翻转的侧边屏蔽电容的左侧顶板电容与第j个单位电容的右侧顶板金属相重合；该电容阵列共排布k+2行，相邻两行之间具有间距，第0行作为上边的屏蔽电容，第k+1行作为下边的屏蔽电容，从而获得k行j列的电容阵列；该电容阵列将所有j列所有单位电容的x+n层金属连线南北走线连通并向北上连接，然后将最北侧没有电容的地方将j+1条最北侧的顶层金属连线用x+n层金属东西全部连通，作为电容阵列的共用顶板连接VTOP；其中，该电容阵列中的单位电容具有x+n层金属，包括：第x层为底板的2条走线金属，走线方向为南北走向，并排着两根x层的金属走线，其中只有1根的金属走线带有向上的通孔；第x+1层为底板的屏蔽层金属，为长方形覆盖住x层金属；其中居中的部分分布向上的通孔；第x+2层居中为南北走向的走线并带有向上的通孔，其中左右两侧都分布着东西走向的梳状金属，梳状金属一半连接到中间的底板电容，梳状金属的另一半连接到两侧的顶板电容；梳状金属的个数为奇数且两侧最上面以及最下面的梳状金属都是连接到电容的底板；其中电容的顶板金属层部分为南北走向，且不与x+1层相重叠；第x+3层以及往上x+n-1层叠加同x+2层相同的金属图形以增加单位电容的电容值；第x+n层为顶板走线的层次，单位电容的顶板从电容单元两侧南北走线，连接到其它单位电容，将电容阵列的顶板连通，第x+n层的位置为与两侧顶板走线相同，宽度也跟顶板电容的部分重合；其中，该电容阵列中的侧边屏蔽电容也具有x+n层金属，包括：第x层为底板的1条走线金属，走线方向为南北走向，根据侧边屏蔽电容位于电容阵列的位置带有向上通孔或不带有向上通孔；第x+1层为底板的屏蔽层金属，为长方形覆盖住x层金属；其中左侧的部分分布向上的通孔；第x+2层左侧为南北走向的走线并带有向上的通孔，作为底板连接的金属，右侧为南北走向的走线并带有向上的通孔，作为顶板走线；在底板走线以及顶板走线的中间分布y条并行的东西走向悬浮金属线，该金属线的线宽与线距与电容单元的梳状金属相同；其中左右两侧都分布着东西走向的梳状金属，梳状金属一半连接到中间的底板电容，这些悬浮金属线即不连接到左侧的底板走线也不连接到右侧的底板走线；第x+3层以及往上x+n-1层叠加同x+2层相同的金属图形；第x+n层为顶板走线的层次，顶板从电容单元右侧南北走线，连接到其他单位电容；根据冗余电容位于电容阵列的位置，第x+n层的顶板连线也可只连接到前述冗余电容的位置而不连同到其他电容上；第x+n层的位置与右侧顶板走线相同，宽度也跟顶板电容的部分重合。

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