埃度纳米科技(上海)有限公司肖荫实获国家专利权
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龙图腾网获悉埃度纳米科技(上海)有限公司申请的专利一种用于立式X射线衍射仪中的样品台装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222866586U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421117340.8，技术领域涉及：G01N23/20025；该实用新型一种用于立式X射线衍射仪中的样品台装置是由肖荫实;张卫星设计研发完成，并于2024-05-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于立式X射线衍射仪中的样品台装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及材料分析检测技术领域，尤其是一种用于立式X射线衍射仪中的样品台装置，包括样品台适配器，样品台适配器正面的底部固定安装有样品台底座，样品台适配器的正面固定安装有基准面后调整座，样品台适配器正面的顶部固定安装有第一挡光刀基座，第一挡光刀基座的底部固定安装有初级挡光刀，样品台底座的右侧固定安装有第二挡光刀基座，第二挡光刀基座的顶部固定安装有次级挡光刀，样品台底座的底部固定安装有样品高度调整机构。本实用新型采用了可调整的初级挡光刀和次级挡光刀，使其能够同时作用，可精确控制通过遮挡背景散射的入射X射线，以减少背景干扰，从而提高衍射信号的质量。
本实用新型一种用于立式X射线衍射仪中的样品台装置在权利要求书中公布了：1.一种用于立式X射线衍射仪中的样品台装置，包括样品台适配器1，其特征在于：所述样品台适配器1正面的底部固定安装有样品台底座2，所述样品台适配器1的正面固定安装有基准面后调整座3，所述样品台适配器1正面的顶部固定安装有第一挡光刀基座4，所述第一挡光刀基座4的底部固定安装有初级挡光刀5，所述样品台底座2的右侧固定安装有第二挡光刀基座8，所述第二挡光刀基座8的顶部固定安装有次级挡光刀7，所述样品台底座2的底部固定安装有样品高度调整机构9，所述样品台底座2的顶部活动安装有样品杯10。
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