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龙图腾网恭喜清华大学申请的专利苯系物氧化生成全挥发性范围有机物箱模型的构建方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118197445B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410161978.X，技术领域涉及：G16C20/10；该发明授权苯系物氧化生成全挥发性范围有机物箱模型的构建方法是由赵斌;尹德嘉;王书肖;何逸聪;李泽祺设计研发完成，并于2024-02-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本苯系物氧化生成全挥发性范围有机物箱模型的构建方法在说明书摘要公布了：本发明涉及苯系物氧化生成全挥发性范围有机物箱模型的构建方法，属于大气环境科学领域。所述方法包括构建苯系物综合二维挥发性区间模型；基于模拟变量值和观测的变量值的对比，得初步对比的结果；根据初步对比的结果，以及模拟变量值和观测的变量值之间的归一化平均误差，对综合二维挥发性区间模型的模型参数进行优化调整；基于优化调整结果，得苯系物氧化生成全挥发性范围有机物箱模型。本发明的模型综合了多种路径生成的全挥发性范围内的苯系物氧化产物，同时复现出了烟雾箱实验中苯系物生成的OOMs和SOA；改善了此前其他方法由于化学机制缺失而导致的无法模拟苯系物全挥发性氧化产物的问题。

本发明授权苯系物氧化生成全挥发性范围有机物箱模型的构建方法在权利要求书中公布了：1.苯系物氧化生成全挥发性范围有机物箱模型的构建方法，其特征在于，包括：根据已有的苯系物氧化的烟雾箱实验、化学动力学和理论计算的研究，构建苯系物综合二维挥发性区间模型；基于模拟变量值和观测的变量值的对比，得初步对比的结果，其中，所述模拟变量值通过综合二维挥发性区间模型模拟苯系物氧化生成高含氧有机物和二次有机气溶胶的实验获得；根据初步对比的结果，以及模拟变量值和观测的变量值之间的归一化平均误差，对综合二维挥发性区间模型的模型参数进行优化调整；基于优化调整结果，得苯系物氧化生成全挥发性范围有机物箱模型；所述基于已有的苯系物氧化的烟雾箱实验、化学动力学和理论计算，构建苯系物综合二维挥发性区间模型，包括：根据已有的苯系物氧化的烟雾箱实验、化学动力学和理论计算的研究，建立苯系物综合二维挥发性区间模型的一级氧化模块；根据已有的苯系物氧化的烟雾箱实验、化学动力学和理论计算的研究，建立苯系物综合二维挥发性区间模型的自由基反应模块；根据已有的苯系物氧化的烟雾箱实验、化学动力学和理论计算的研究，建立苯系物综合二维挥发性区间模型的多级氧化模块；所述一级氧化模块用于模拟有机物在OHO3NO3自由基的氧化作用下形成第一级稳定分子或自由基的过程；所述自由基反应模块用于模拟不同自由基的链式氧化和终止反应；所述自由基反应模块建立时，区分单取代苯系物和多取代苯系物采用不同的自由基模块参数；所述苯系物氧化生成全挥发性范围有机物箱模型的模型参数包括fbcp、fcresol、fbenzaldehyde、fbcp_Ox、k1、k2、k3、k00、k11、k22、k33、f0,0、f0,n、fn,n、kRO2+HO2、kRO2+NO、fRONO2、kbasis、khet和n_frag；其中，fbcp为过氧双环产物的比例，fcresol为甲酚路径的比例，fbenzaldehyde为苯甲醛路径的比例，fbcp_Ox为可自氧化的过氧双环自由基的比例，均属于一级氧化产物的比例； k1、k2、k3分别对应第一级自氧化速率、第二级自氧化速率和第三级自氧化速率，均属于自氧化速率； k00、k11、k22、k33分别对应未经自氧化RO2的双聚速率、第一级自氧化RO2的双聚速率、第二级自氧化RO2的双聚速率和第三级自氧化RO2的双聚速率，均属于双聚速率； f 0,0、f0,n、fn,n分别对应不同的双聚比例，其中，n=1,2,3； kRO 2 +HO 2 为RO2+HO2终止反应速率；kRO2+NO为RO2+NO终止反应速率；fRONO2为硝酸盐生成比例；kbasis为气相氧化速率；khet为非均相氧化速率；n_frag为裂解比例。

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