恭喜湖南普照信息材料有限公司周志刚获国家专利权
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龙图腾网恭喜湖南普照信息材料有限公司申请的专利一种低折射率低消光系数的相移掩模坯料制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117348329B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311362139.6，技术领域涉及：G03F1/26；该发明授权一种低折射率低消光系数的相移掩模坯料制作方法是由周志刚;李伟;李翼设计研发完成，并于2023-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低折射率低消光系数的相移掩模坯料制作方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低折射率低消光系数的相移掩模坯料制作方法，包括：选取相移掩模坯料基底，基底的折射率在1.6以下、消光系数在0.05以下；将基底进行抛光、清洗处理；在基底上堆叠过渡层，过渡层的折射率n1与基底的折射率n2之差在0.3以内；在过渡层上堆叠相移层，相移层的折射率n3分别与过渡层的折射率n1、基底的折射率n2之差在0.5以内，相移层对于波长190‑900nm的光的消光系数k1为0.9以下；在相移层上堆叠铬膜层；在铬膜层上堆叠光刻胶。本发明提供的相移掩模坯料制作方法，能够在190‑900nm全波长上保持较低的消光系数，减少各曝光光源下的光刻时间，提高光刻效率，同时保证相移膜的膜层厚度有利于光刻结构的形成。
本发明授权一种低折射率低消光系数的相移掩模坯料制作方法在权利要求书中公布了：1.一种低折射率低消光系数的相移掩模坯料制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：选取相移掩模坯料基底，所述基底的折射率在1.6以下、消光系数在0.05以下；对所述基底进行抛光、清洗处理；在所述基底上堆叠过渡层，所述过渡层为二氧化硅膜层，所述过渡层的折射率n1与所述基底的折射率n2之差在0.3以内；在所述过渡层上堆叠相移层，所述相移层的折射率n3分别与过渡层的折射率n1、基底的折射率n2之差在0.5以内，所述相移层对于波长190-900nm的光的消光系数k1为0.9以下；在所述相移层上堆叠铬膜层，用于形成图形结构；在所述铬膜层上堆叠光刻胶层，完成相移掩模坯料制作。
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