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龙图腾网恭喜墨光新能科技(苏州)有限公司申请的专利一种高透辐射制冷保护膜及其用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116904132B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310668280.2，技术领域涉及：C09J7/50；该发明授权一种高透辐射制冷保护膜及其用途是由宗麟奇;孔德兴;吕彬设计研发完成，并于2023-06-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高透辐射制冷保护膜及其用途在说明书摘要公布了：本发明涉及一种高透辐射制冷保护膜，包括光谱调控层，所述光谱调控层包括交替层叠设置的低折射率材料和高折射率材料，高折射率材料不少于6层，低折射率材料不少于5层。该薄膜通过多层膜的结构设计实现了光谱调控，保证高可见光透光的前提下，有效隔绝太阳光波段其他能量的入射，并通过热红外波段将热量以电磁波的形式发射到宇宙天然冷源中，以实现最大程度的辐射制冷效果。

本发明授权一种高透辐射制冷保护膜及其用途在权利要求书中公布了：1.一种高透辐射制冷保护膜，其特征在于：包括光谱调控层，所述光谱调控层包括交替层叠设置的低折射率材料和高折射率材料；所述高透辐射制冷保护膜还包括有机封装层、基底膜和胶层，所述有机封装层为疏水层，基底膜为钢化膜，有机封装层和辐射制冷层分别设置在基底膜两侧，胶层用于将所述辐射制冷保护膜贴合在电子屏幕上；所述辐射制冷层即为所述光谱调控层；所述光谱调控层的顶层和底层材料均为高折射率材料；每层高折射率材料相同或不同，选自TiO2、Ti3O5、Ti2O3、ZrO2、CeO2、HfO2中的一种或多种材料；每层低折射率材料相同或不同，选自SiO2、SiO、SiC、Al2O3、AlF3、MgF2中的一种或多种材料；所述低折射率材料和高折射率材料均为电子束蒸发镀膜形成，镀膜工艺满足：镀膜时材料的粒径为1-20mm；所述光谱调控层的材料层厚度由玻璃基底向外包括依次设置为10-20nm、20-50nm、100-150nm、150-200nm、80-110nm、150-200nm、90-130nm、150-200nm、90-130nm、20-50nm、10-20nm；光线经所述光谱调控层后，可见光具有90%以上的透过率。

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