恭喜万华化学集团股份有限公司董超获国家专利权
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龙图腾网恭喜万华化学集团股份有限公司申请的专利一种光气化制备MDI的循环溶剂及其提纯方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116217439B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310003120.6，技术领域涉及：C07C263/10；该发明授权一种光气化制备MDI的循环溶剂及其提纯方法是由董超;赵东科;张金强;文放;张宏科;周宇杰;黄荐;朱健;范石晓设计研发完成，并于2023-01-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光气化制备MDI的循环溶剂及其提纯方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光气化制备MDI的循环溶剂及其提纯方法，通过控制循环溶剂中卤代烃类物质质量含量循环溶剂中卤代烃类物质质量含量，可改善产品品质，降低产品色号。采用隔壁塔组合多效精馏的方式，可实现卤代烃类物质和溶剂的高效分离，产品质量大幅提升，可直接循环使用。该方法合并了异氰酸酯粗品精制过程中的脱气和脱溶剂系统，节省了溶剂提纯单元，实现能量的完全耦合，工艺简单可靠，可大幅降低投资和运行成本。
本发明授权一种光气化制备MDI的循环溶剂及其提纯方法在权利要求书中公布了：1.一种光气化制备MDI的循环溶剂的提纯方法，所述方法包括以下步骤：a、光气化反应：将二苯基甲烷二胺和光气在惰性溶剂下发生光气化反应生成光化反应液；b、隔壁分离：反应液在隔壁塔中分离提纯，塔顶采出含光气和HCl的轻组分，塔中采出气相溶剂作为采出溶剂，塔釜浓缩液送至溶剂脱除单元；c、溶剂脱除：来自步骤b中的塔釜浓缩液在溶剂脱除塔中进一步减压蒸馏，溶剂脱除塔塔顶冷凝液作为冷凝溶剂；所述步骤a中惰性溶剂循环使用，循环溶剂中卤代烃类物质质量含量为0.1-200ppm；循环溶剂包括采出溶剂和冷凝溶剂。
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