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龙图腾网恭喜星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司申请的专利复合阻氢涂层加工方法及复合阻氢涂层获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116005108B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211509520.6，技术领域涉及：C23C14/06；该发明授权复合阻氢涂层加工方法及复合阻氢涂层是由钱政羽;钱涛设计研发完成，并于2022-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本复合阻氢涂层加工方法及复合阻氢涂层在说明书摘要公布了：本发明揭示了复合阻氢涂层加工方法及复合阻氢涂层，其中加工方法得到的第三阻氢层不存在晶体材料的晶界缺陷，具有极佳的阻氢性能，其为表层能够极大地增加渗透表层的难度；第一、第二阻氢层采用闭合非平衡磁控溅射工艺加工，使得它们的晶粒尺寸更细小，涂层致密性高，能够使它们自身的阻氢性能极大改善；将三种阻氢层叠加在一起，使得氢原子渗透到不同层的渗透难度呈几何倍数的增加。采用相对较低的工艺温度，一来，使得第一、第二阻氢层的晶粒不会过渡增大从而获得晶粒小且密实的涂层，二来，可以保证第三阻氢层具有足够的硬度及避免温度过高容易使基材回火导致易变形进而使所述第一、第二、第三阻氢层受影响失效的问题。

本发明授权复合阻氢涂层加工方法及复合阻氢涂层在权利要求书中公布了：1.复合阻氢涂层加工方法，其特征在于：包括如下步骤：S1，对基材进行清洗；S2，采用闭合非平衡磁控溅射工艺在清洗后的基材上沉积得到第一阻氢层；S3，采用闭合非平衡磁控溅射工艺在所述第一阻氢层上沉积得到第二阻氢层；S4，在所述第二阻氢层上沉积得到第三阻氢层，所述第三阻氢层为非晶态结构；在沉积第一阻氢层、第二阻氢层及第三阻氢层时，控制沉积温度不超过200℃；所述S1包括如下步骤：S11，将基材置于沉积炉内的转架上；S12，将沉积炉抽真空至预定的真空度；S13，向沉积炉内充入氩气至沉积炉内的气压处于0.6-1.5Pa之间；S14，开启偏压电源及离子束源实现偏压辉光清洗和离子束清洗同时对基材进行清洗；所述真空室内设置的离子束源为阳极层离子源且它们均匀分布在工件架周围；所述偏压电源工作时的电压在700-2000V之间；所述离子束源工作时的电压在300-2000V之间；所述阳极层离子源的内阴极和外阴极的水平距离在4-8mm之间，阴阳极在高度方向上的距离在4-8mm之间；所述真空室内的气压在0.6-10Pa之间。

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