恭喜中国科学院金属研究所刘畅获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学院金属研究所申请的专利一种碳纳米管手性关联电学、热学本征性质的微型测量装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115165966B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210728662.5，技术领域涉及：G01N27/00；该发明授权一种碳纳米管手性关联电学、热学本征性质的微型测量装置是由刘畅;赵海波;张莉莉;成会明设计研发完成，并于2022-06-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种碳纳米管手性关联电学、热学本征性质的微型测量装置在说明书摘要公布了：本发明涉及纳米材料精细测量领域，具体来说，涉及一种碳纳米管手性关联电学、热学本征性质的微型测量装置。该装置主要由硅基片、介电层、金属电极等构成，硅基片具有一定的厚度并且中心区域有两个以上狭缝和通孔标记，介电层为氮化硅层，覆盖在硅基片表面；金属电极位于介电层上，且设有两个以上金属电极。采用本发明的装置，可实现在透射电镜下快速定位在狭缝上悬空的碳纳米管，并准确表征出碳纳米管的手性结构。借助装置上的金属电极和狭缝，可以利用拉曼光谱、源表等仪器对同一根确定手性的碳纳米管进行电学和热学性质的准确测量，从而建立碳纳米管手性与其电学、热学等性质的关联。
本发明授权一种碳纳米管手性关联电学、热学本征性质的微型测量装置在权利要求书中公布了：1.一种碳纳米管手性关联电学、热学本征性质的微型测量装置，其特征在于，该装置包括：硅基片、介电层和金属电极，介电层为氮化硅层，覆盖在硅基片表面；硅基片的中心区域设有两个以上狭缝和通孔标记，金属电极位于硅基片上表面的介电层上，且设有两个以上金属电极；狭缝包括一个宽狭缝和两个以上窄狭缝，宽狭缝与窄狭缝平行；宽狭缝宽度为10～100μm，窄狭缝宽度为2～5μm，窄狭缝中间均匀排列两个以上凸起；宽狭缝与窄狭缝长度相同，为100～500μm。
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