恭喜京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司乔亚峥获国家专利权
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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司申请的专利阵列基板及其制备工艺、显示面板和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112885853B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110390869.1，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权阵列基板及其制备工艺、显示面板和显示装置是由乔亚峥;郭会斌;沈鹭;孔曾杰;王明;代耀;刘俊;赵达裕;丁俊设计研发完成，并于2021-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及其制备工艺、显示面板和显示装置在说明书摘要公布了：本发明涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种阵列基板及其制备工艺、显示面板和显示装置。阵列基板包括过孔区和搭接金属线，所述过孔区至少设置有两个且所述过孔区内均形成有第一过孔，所述搭接金属线的两端分别伸入两个过孔区内的第一过孔，所述过孔区在所述阵列基板的厚度方向包括依次层叠设置的衬底基板、公共电极、栅极绝缘层、第一有源层、钝化层和像素电极，所述搭接金属线位于所述有源层和钝化层之间。阵列基板结构简单、易于实现，在不增加生产工序及成本的条件下，可以提高过孔区的膜层厚度，增加了搭接金属线与公共电极的距离，同时可以缩小孔洞处两者的正对面积，有效解决了过孔易发生异常放电的难题，提高了产品的良率。
本发明授权阵列基板及其制备工艺、显示面板和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括过孔区和搭接金属线，所述过孔区至少设置有两个且所述过孔区内均形成有第一过孔，所述搭接金属线的两端分别伸入两个过孔区内的第一过孔，所述过孔区在所述阵列基板的厚度方向包括依次层叠设置的衬底基板、公共电极、栅极绝缘层、第一有源层和钝化层，所述搭接金属线位于所述第一有源层和钝化层之间；所述栅极绝缘层的厚度为所述第一有源层的厚度为
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