恭喜株式会社斯库林集团堀越章获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社斯库林集团申请的专利基板处理方法以及基板处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112631089B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010877538.6,技术领域涉及:G03F7/42;该发明授权基板处理方法以及基板处理装置是由堀越章;中村昭平;高辻茂;河野元宏;木村贵弘;小林健司设计研发完成,并于2020-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法以及基板处理装置在说明书摘要公布了:本发明提供一种能够有效率地进行利用了处理液的氧化力的基板处理的基板处理方法以及基板处理装置。在基板SB上形成含有硫酸、硫酸盐、过氧硫酸及过氧硫酸盐中的至少任一种的处理液或含有过氧化氢的处理液的液膜LQ。对液膜LQ照射等离子体PL。
本发明授权基板处理方法以及基板处理装置在权利要求书中公布了:1.一种基板处理方法,包括:在基板上形成含有硫酸、硫酸盐、过氧硫酸及过氧硫酸盐中的至少任一种的处理液或含有过氧化氢的处理液的液膜的工序;以及向所述液膜照射等离子体而在所述液膜中产生自由基的工序,照射所述等离子体的工序包括:通过向气氛中的第一电极及第二电极施加电压,使所述气氛等离子体化来生成等离子体的工序;以及静态地保持所述等离子体中的所述气氛的工序。
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