恭喜ASML荷兰有限公司P·G·J·斯莫雷伯格获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利光刻工艺及关联设备的子场控制获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114174927B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080048266.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻工艺及关联设备的子场控制是由P·G·J·斯莫雷伯格;P·萨普塔拉;P·德尔温;K·艾尔巴泰设计研发完成，并于2020-06-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻工艺及关联设备的子场控制在说明书摘要公布了：公开了一种用于确定场内校正以控制光刻设备的方法，该光刻设备被配置为曝光在衬底的曝光场上的图案，所述方法包括：获取用于确定所述场内校正的量测数据；在该量测数据不可靠的情况下和或在所述光刻设备在启动基于该量测数据的电位启动输入方面受限的情况下，确定指示较低精确度的精确度度量；以及至少部分地基于该精确度度量来确定所述场内校正。
本发明授权光刻工艺及关联设备的子场控制在权利要求书中公布了：1.一种用于确定场内校正以控制光刻设备的方法，所述光刻设备被配置为曝光在衬底的曝光场上的图案，所述方法包括：获取用于确定所述场内校正的量测数据；在所述量测数据不可靠的情况下和或在所述光刻设备在启动基于所述量测数据的电位启动输入方面受限的情况下，确定指示较低精确度的精确度度量；使用所述精确度度量从控制策略库中选择控制策略，并且其中所述场内校正至少部分地基于所选择的控制策略；以及至少部分地基于所述精确度度量来确定所述场内校正。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号