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恭喜三星电子株式会社金炳勋获国家专利权

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龙图腾网恭喜三星电子株式会社申请的专利衬底处理设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN111987016B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010447216.8,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权衬底处理设备是由金炳勋;孔炳焕;裴承龙;安在铉设计研发完成,并于2020-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。

衬底处理设备在说明书摘要公布了:一种衬底处理设备,包括:工艺腔室;支撑部,其设置在工艺腔室中,具有其中安置有衬底的衬底装载区;加热部,其设置在与衬底装载区相对的位置中以加热衬底装载区;以及反射构件,其设置在工艺腔室中的与衬底装载区相对的位置中,密封中空部设置在所述反射构件中。

本发明授权衬底处理设备在权利要求书中公布了:1.一种衬底处理设备,包括:工艺腔室;支撑部,其位于所述工艺腔室中,所述支撑部包括衬底装载区,所述衬底装载区被构造为支撑安置在所述衬底装载区中的衬底;加热部,其被构造为加热所述衬底装载区;以及反射构件,其在所述工艺腔室中邻近于所述衬底装载区,并且被构造为将从所述衬底装载区发散的热量反射到所述衬底,所述反射构件具有位于所述反射构件中的密封中空部,所述密封中空部被构造为改善所述反射构件的热反射效率,其中,所述反射构件包括限定所述密封中空部的第一内表面、第二内表面和内侧表面,所述第一内表面面对所述衬底装载区,所述第二内表面与所述第一内表面相对,并且所述内侧表面连接所述第一内表面和所述第二内表面,所述反射构件包括具有第一反射率的反射性材料,并且所述第一内表面和所述第二内表面中的至少一个包括涂覆在其上的具有第二反射率的材料,所述第二反射率高于所述第一反射率。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社,其通讯地址为:韩国京畿道;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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