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龙图腾网恭喜西安稀有金属材料研究院有限公司申请的专利光交联型阴离子交换膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119725644B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510221036.0，技术领域涉及：H01M8/1072；该发明授权光交联型阴离子交换膜及其制备方法是由杨薇弘;谢龙飞;宰伟;吕英威;王凯;樊光娆;吴金平设计研发完成，并于2025-02-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本光交联型阴离子交换膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本公开是关于一种光交联型阴离子交换膜及其制备方法，涉及阴离子交换膜技术领域。该方法包括：S10、获得含乙烯基咪唑鎓结构的第一聚合物；第一聚合物包括摩尔比为（0.7~1.5）：1的苯乙烯重复单元和乙烯基咪唑鎓修饰的苯乙烯重复单元；S20、将第一聚合物与苯醚聚合物按照质量比（1~9）：1加入第一有机溶剂溶解后，加入光交联剂和光引发剂，搅拌0.5~3h，获得阴离子交换膜前驱体；S30、将阴离子交换膜前驱体平铺于容器中进行光交联反应，获得光交联型阴离子交换膜。本公开制备方法获得的光交联型阴离子交换膜高温下溶胀比低，具有较高的尺寸稳定性。

本发明授权光交联型阴离子交换膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光交联型阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S10、获得含乙烯基咪唑鎓结构的第一聚合物；所述第一聚合物包括苯乙烯重复单元和乙烯基咪唑鎓修饰的苯乙烯重复单元；苯乙烯重复单元的结构式为： ；乙烯基咪唑鎓修饰的苯乙烯重复单元的结构式为： ；其中，所述苯乙烯重复单元与乙烯基咪唑鎓修饰的苯乙烯重复单元的摩尔比为（0.7~1.5）：1；S20、将第一聚合物与聚苯醚按照质量比（1~9）：1加入第一有机溶剂溶解后，加入光交联剂和光引发剂，搅拌0.5~3h，获得阴离子交换膜前驱体；所述光交联剂的结构式为： ；其中，R为含有3~15个碳的亚甲基；S30、将阴离子交换膜前驱体平铺于容器中并暴露于365nm紫外光下10~30min后，在50~120oC下热处理12~48h，获得光交联型阴离子交换膜；其中，步骤S10中，所述获得含乙烯基咪唑鎓结构的第一聚合物包括：S101、将苯乙烯与对氯甲基苯乙烯加入第二有机溶剂，获得第一混合溶液；其中，所述苯乙烯与对氯甲基苯乙烯的质量比为（0.5~1）：1；S102、在第一混合溶液中加入自由基聚合引发剂反应10~12h后，分批加至第一沉淀剂中，获得共聚物；所述自由基聚合引发剂的质量为所述第一混合溶液的质量的0.1%~10%；S103、所述共聚物溶解于第三有机溶剂，加入乙烯基咪唑，在50~80℃下反应24~48h后，分批加至第二沉淀剂中，获得含乙烯基咪唑鎓结构的第一聚合物；其中，所述乙烯基咪唑的质量与共聚物的质量比为（1~7）：10。

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