恭喜中国人民解放军国防科技大学石峰获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国人民解放军国防科技大学申请的专利基于频域分析的大口径光栅扫描刻蚀周期误差抑制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119557550B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510116951.3，技术领域涉及：G06F17/15；该发明授权基于频域分析的大口径光栅扫描刻蚀周期误差抑制方法是由石峰;周港;彭星;田野;巩保启;郭双鹏设计研发完成，并于2025-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于频域分析的大口径光栅扫描刻蚀周期误差抑制方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于频域分析的大口径光栅扫描刻蚀周期误差抑制方法，本发明方法包括S1，形成路径函数；S2，计算去除量分布；S3，进行功率谱密度分析以获得频谱幅值；S4，提取频率；S5，计算频率下的扫描行距；S6，形成新的扫描路径；S7，对大口径光栅样件进行加工；S8，判断大口径光栅样件是否满足要求，若满足要求则结束并退出，否则提取频谱中误差高于图纸误差的频率分布的频谱幅值，跳转执行S4。本发明旨在解决现有的大口径扫描刻蚀工艺效率过低、易产生溅射污染的问题，提高大口径光学元件的加工效率和加工质量。
本发明授权基于频域分析的大口径光栅扫描刻蚀周期误差抑制方法在权利要求书中公布了：1.一种基于频域分析的大口径光栅扫描刻蚀周期误差抑制方法，其特征在于，包括：步骤S1，初步确定初始的换行行距并形成路径函数；步骤S2，根据路径函数和去除函数计算去除量分布；步骤S3，对去除量分布进行功率谱密度分析以获得初始的频谱幅值；步骤S4，提取当前的频谱幅值最小时的频率；步骤S5，根据计算频率下对应的扫描行距；步骤S6，利用频率下对应的扫描行距形成新的扫描路径；步骤S7，利用新的扫描路径对大口径光栅样件进行扫描刻蚀加工；步骤S8，判断大口径光栅样件的表面沟槽深度分布是否满足要求，若满足要求则结束并退出，否则提取频谱中误差高于图纸误差的频率分布的频谱幅值作为新的当前的频谱幅值，跳转执行步骤S4继续进行迭代。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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